Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9105595 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 6100 ist eine Hochleistungs-Masken- und Wafer-Inspektionsanlage. Es ist für den Einsatz in einer Produktions- oder Laboreinrichtung konzipiert und verfügt über ein flexibles Design mit automatisierten Masken- und Folieninspektionsmöglichkeiten. Das System nutzt fortschrittliche Technologie, einschließlich einer hochauflösenden CCD-Kamera, Laserbeugungsoptik und einer automatisierten Inspektionsstufe. Die Kamera bietet eine helle, klare Sicht auf den Inspektionsbereich, so dass der Bediener Proben schnell und genau analysieren kann. Die Laserbeugungsoptik sorgt auch auf Nanometerebene für genaue Messungen. Darüber hinaus ermöglicht die automatisierte Inspektionsstufe dem Bediener, Masken und Folien schnell zu inspizieren, um Ausrichtungsgenauigkeit und Qualitätskontrolle zu gewährleisten. NanoSpec 6100 verfügt auch über erweiterte Software-Tools für Datenverwaltung und -analyse. Das Softwarepaket unterstützt eine Reihe von Datentypen, wie binäre Eingaben für computergestütztes Design (CAD) und benutzerdefinierte Zeichnungsdateien für CAD sowie den Import und Export von Daten. Die Software unterstützt auch die Batch-Verarbeitung, so dass Benutzer schnell und einfach mehrere Masken und Filme verarbeiten können. NANOMETRICS NanoSpec 6100 enthält einen integrierten Satz von Hard- und Software-Tools und ist so konzipiert, dass sie vollautomatisch arbeiten. Es verwendet eine Reihe von Software-Algorithmen, um Masken- und Wafer-Inspektionsaufgaben zu automatisieren. Die erweiterten Software-Tools des Geräts ermöglichen eine intuitive Benutzeroberfläche, die die Bedienung vereinfacht und es Benutzern ermöglicht, Masken und Wafer schnell und einfach zu bearbeiten. Die Maschine bietet auch integrierte Wafermanagement- und Datenanalysefunktionen, die höhere Durchsatzraten ermöglichen. NanoSpec 6100 ist eine ideale Lösung für Halbleiterhersteller, Lithographie-Verfahrenstechniker und Forschungs- und Entwicklungslabore. Das Tool liefert genaue, zuverlässige und reproduzierbare Daten, die eine präzise Überwachung und Kontrolle der Fertigung ermöglichen. Es kann auch verwendet werden, um Probleme im Zusammenhang mit Maskenausrichtung, Musterverzerrung und anderen Defekten schnell zu identifizieren. Darüber hinaus ermöglicht die Flexibilität und Effizienz der Anlage eine Anpassung an eine Vielzahl von Anwendungen und Mustergrößen.