Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9160215 zu verkaufen
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ID: 9160215
Weinlese: 2003
Film thickness measurement system
Software version: 1.63
Wavelength:
Visible wavelength: 250 nm to 800 nm
White lamp (Halogen lamp)
UV Option
2003 vintage.
NANOMETRICS NanoSpec 6100 ist eine moderne Masken- und Wafer-Inspektionsanlage der nächsten Generation. Dieses schnelllaufende, automatisierte System liefert schnelle und genaue grafische Charakterisierung der vielfachen Metrologie, und Schauaufgaben, um zum Beispiel zu messen, sterben, um sich zu drängen, zu sterben, um, Sterben-Randposition und gesamte Maskendefekte zu sterben. Mit einer überlegenen, hohen Pixelauflösung bietet NanoSpec 6100 eine fortschrittliche Oberflächen-/Gitteranalyse. Das fortschrittliche Produktdesign von NANOMETRICS NanoSpec 6100 beinhaltet einen voll motorisierten, computergesteuerten sechsachsigen Motor mit optischer Navigation, der genaue, hochauflösende Punktscanning- und Walking-Scan-Messtechniken gewährleistet. Es ist auch kompatibel mit einer Vielzahl von nanomechanischen Messtechniken, einschließlich Atomkraftmikroskopie (AFM) und Nanoskratch-Messtechnik, die Datenanalyse und 3D-topographische Profilerzeugung zur Charakterisierung von Oberflächen auf Nanometerauflösungsebene ermöglichen. NanoSpec 6100 bietet eine robuste Palette von Bildverarbeitungs- und Analysealgorithmen, um die Erkennung, Klassifizierung und Charakterisierung von Funktionen zu automatisieren. Es verfügt auch über eine Reihe von erweiterten Inspektionsalgorithmen wie 3D und 2D-Bildverarbeitung, Teil-zu-Teil, Querschnitt und formbasierten Vergleich, was zu einer zuverlässigen Fehlererkennung führt. Dieses Gerät führt eine automatisierte Fehlerinspektion durch, übersetzt die visuellen Daten in eine kategorisierte Fehlerliste, mit automatischer Ausrichtung, Parametervergleich und optimierter Fehlerkatalogisierung, einschließlich Standortsortierung. NANOMETRICS NanoSpec 6100 ist benutzerfreundlich und einfach zu bedienen, mit einer klaren grafischen Benutzeroberfläche, die eine einfache Parametereingabe und Ergebnisauswertung in Echtzeit ermöglicht. Es bietet auch eine breite Palette von Berichten und grafischen Anzeigen von messtechnischen Daten, Darstellung von erkannten Fehlern und statistische Zusammenfassung, um die Erzielung der höchsten Qualität Inspektionsergebnisse zu helfen. Insgesamt bietet NanoSpec 6100 eine schnelle, genaue und effiziente Masken- und Wafer-Inspektion der nächsten Generation. Mit seiner Reihe von leistungsstarken Metrologie- und Inspektionsvorteilen wurde diese Maschine entwickelt, um nahtlose, automatisierte Inspektionsergebnisse für eine Vielzahl von Anwendungen wie Halbleiterherstellung, Flachbildschirm und optische Inspektion zu ermöglichen.
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