Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9282618 zu verkaufen

ID: 9282618
Weinlese: 2001
Film thickness measurement system Cables included Objectives: 4x, 10x, 40x Power supply: 115 V, 5 A, Single phase 2001 vintage.
NANOMETRICS NanoSpec 6100 ist eine fortschrittliche Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung entwickelt, um das höchste Maß an Genauigkeit und Zuverlässigkeit in der Lehre und Durchführung kritischer Prozesse der Nanosensor-Fertigung zu bieten. Mit diesem System können Kunden hochzuverlässige und kostengünstige Masken und Wafer für ihre Halbleiteranwendungen erstellen. NanoSpec 6100 verwendet hochauflösende Visualisierung, verbesserte Betriebsgeschwindigkeit und vollautomatische Bildanalyse, um einzelne Funktionen mit einem Durchmesser von 50 Nanometern zu erkennen und zu klassifizieren. Dies ermöglicht eine hohe Genauigkeit und Konsistenz bei der Inspektion von Maske und Wafern. Das Gerät ist auch in der Lage, vollständige Bilder in vertikal zusammengeführten Stereobildern zu erfassen, was besonders für die Inspektion von 3D-Masken nützlich ist. Die vollautomatische Bildanalysefähigkeit der Maschine ermöglicht es, den Kontrast effektiv zu verbessern und Artefakte aus Bildern zu entfernen, um sowohl die Maske als auch den Wafer gründlich zu überprüfen. Darüber hinaus kann das Werkzeug Fehler schnell erkennen und bei Bedarf Korrekturmaßnahmen on-the-fly umsetzen. Die Anlage kann verwendet werden, um eine Vielzahl von elektrischen und optischen Designs zu analysieren, einschließlich Drahtbonden, Pads und über Bildung, Photolithographie und feine Leitungsschaltungsspuren. Dies wird durch seine starken Software-Fähigkeiten ermöglicht, die es ermöglicht, sowohl 2D- als auch 3D-Eigenschaften eines Designs zu handhaben. Darüber hinaus kann das Modell mit einer Vielzahl von Wafergeometrien und Konstruktionsstilen verwendet werden. NANOMETRICS NanoSpec 6100 bietet auch eine einfache, intuitive Bedienung mit einer hochmodernen Benutzeroberfläche, die es dem Bediener ermöglicht, schnell durch seine Funktionen zu navigieren. Die Ausrüstung wird durch eine in einer Prozession gehende Hochleistungseinheit angetrieben und hat die Ressourcen, große dataset Analyse mit der minimalen Verzögerung zu behandeln. Insgesamt ist NanoSpec 6100 ein fortschrittliches, genaues und zuverlässiges System zur Inspektion von Masken- und Wafer-Designs. Mit seiner Fähigkeit, Funktionen mit einem Durchmesser von 50 Nanometern schnell zu erkennen und zu klassifizieren, und seiner intuitiven Benutzeroberfläche ist das Gerät ein ideales Werkzeug für Kunden, die eine hochwertige und zuverlässige Nanosensorproduktion benötigen.
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