Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9355328 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 6100 ist eine führende Kantenmaske und Wafer-Inspektionsanlage, die Halbleiterherstellern hilft, höchste Produktionsqualität zu gewährleisten. Das System verfügt über eine Hochleistungs-Laserdiode (100 Watt), eine große Feldkamera und eine Reihe fortschrittlicher Optik- und Bildverarbeitungsalgorithmen. Die NanoSpec 6100 ermöglicht eine automatisierte Überprüfung von Defektmerkmalen, die sowohl auf Masken- als auch auf Waferoberflächen bis zu 3,5 nm klein sind, und ist in der Lage, lithographische Hotspots, Partikel, Kratzer und andere kritische Defekte schnell zu erkennen. NANOMETRIE NanoSpec 6100 verwendet eine 100-Watt-Laserdiode, um Licht in einem großen, rechteckigen Gesichtsfeld zu projizieren, das über die Oberfläche des Substrats gescannt wird. Die Optik des Geräts wurde entwickelt, um Verzerrungen und Lichtstreuungen zu minimieren, so dass Unterwellenlängendefekte und Oberflächenmerkmale mit hoher Treue erkannt werden können. Die resultierenden Bilder werden in Echtzeit durch Bildsegmentierungsalgorithmen analysiert, wodurch Fehler identifiziert und zur weiteren Inspektion markiert werden können. NanoSpec 6100 verwendet zwei erweiterte Bildverarbeitungsmodi, um maximale Flexibilität und Robustheit zu bieten. Im RGB-Bildgebungsmodus verwendet die Maschine einen hochauflösenden Farbsensor, um Fehler in Masken- und Wafersubstraten zu erkennen. Im Einzelwellenlängenabbildungsmodus wird dagegen eine einzige Laserwellenlänge verwendet, um schwellenbasierte Detektionen sowohl großer als auch kleiner Partikel, Kratzer, Gruben und anderer Defekte durchzuführen. Auch NANOMETRICS NanoSpec 6100 bietet ein hohes Maß an Automatisierung und Flexibilität. Ein großes Touchscreen-Display ermöglicht es dem Bediener, Inspektionen einfach zu starten und zu stoppen, Einstellungen zu ändern und Ergebnisse zu analysieren. Darüber hinaus bieten die Hochgeschwindigkeits-Scanfähigkeit und die automatisierte Fehlererkennung des Tools einen beispiellosen Durchsatz und Leistung. Insgesamt ist NanoSpec 6100 eine hervorragende Masken- und Wafer-Inspektion, die branchenführende Leistung bietet. Mit hochauflösender Bildgebung und leistungsstarken automatisierten Algorithmen ist das Modell in der Lage, lithographische Defekte und kritische Oberflächenmerkmale schnell und zuverlässig zu erkennen. Es ist ein leistungsstarkes Werkzeug, um höchste Qualität und Produktionsausbeute in der modernen Halbleiterherstellung zu erreichen.