Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9372486 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 6100 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein von NANOMETRICS entwickeltes hochleistungsfähiges bildgebendes und optisches Messtechnik-Tool zur hochpräzisen, hochauflösenden Auswertung fortschrittlicher Gerätefunktionen. Das System nutzt die neuesten optischen Mikroskope, digitale Bildgebung, Messsoftware und Computersteuerungstechnik und ist darauf ausgelegt, umfassende Informationen über die Masken- und Waferstrukturen der komplexesten Halbleiterbauelemente schnell zu erfassen, zu verarbeiten, zu analysieren und zu berichten. Die NanoSpec 6100 wurde speziell für die genaue Messung optischer Muster auf der Nanoskala entwickelt, wie sie für Flachbildschirme mit hoher Helligkeit (FPDs) erforderlich sind. Dieses Gerät verwendet eine proprietäre, digitale Spot-Autofokusmaschine, die schnelle, defokussierende basierte Fokusnähte mit hochgenauen Echtzeit-Messergebnissen durchführt. NANOMETRICS NanoSpec 6100 Reporting-Tools enthalten leistungsstarke Software, die Daten aus mehreren Ebenen zu einem einzigen Bericht kombiniert. Dazu gehören hochauflösende Bildgebung auf Scanebene, schichtweise modellbasierte Bildgebung, feine Ausrichtbarkeit und ein umfangreiches Messspektrum. Darüber hinaus bietet das Tool eine Vielzahl von benutzerdefinierten Funktionen zur Validierung von Messungen, einschließlich der Möglichkeit, die Auswirkungen von Fehlern bei der Ausrichtung von Mehrschichtmasken zu bewerten und Prozeßoptimierungspläne zu erstellen. NanoSpec 6100 ist auch in der Lage, Echtzeit-Bildgebung und Inspektion durch seine erweiterten Multi-Reflexion und Reflexionsverlust Fähigkeiten. Diese ermöglichen es dem Asset, schnell eine Vielzahl von Ergebnissen mit weniger Messungen zu liefern. Zusätzlich, um die höchste Genauigkeit der Messungen zu gewährleisten, ist das Modell mit hochempfindlichen Neigungs- und Füllstandssensoren ausgestattet, um Wiederholfehler zu reduzieren. NANOMETRICS NanoSpec 6100 umfasst eine hochflexible Softwarearchitektur, die zur Schnittstelle mit einer Vielzahl externer Instrumente konzipiert ist. Das schließt ein, aber wird auf, Röntgenstrahlbeugung, Atomkraftmikroskopie, Interferometer und Anwendungen von Scanning Electron Microscopy nicht beschränkt. Darüber hinaus sind eine umfassende Reihe von Analysewerkzeugen, wie Design of Experiments, und mehrdimensionale Kurvenanpassung im Lieferumfang enthalten. Mit seiner intuitiven Benutzeroberfläche, den erweiterten Scan- und Messtechnikfunktionen und der Fähigkeit, hochgenaue und zuverlässige Ergebnisse zu generieren, ist das NanoSpec 6100 Masken- und Wafer-Inspektionssystem eine ideale Lösung für die schnelle und genaue Messung und Analyse fortschrittlicher Gerätemuster.