Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 9010 #293650063 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 9010 ist eine hoch leistungsfähige, multisensorkritische Dimension (CD) und Overlay-Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung. Dieses System bietet eine einzigartige Fähigkeit zum Messen, Quantifizieren und Abbilden einer Reihe kritischer Dimensionen von feinsten Schaltungselementen, die auf mikrolithographischen Masken und Waferoberflächen präsentiert werden. Die Messfähigkeiten reichen von einfachsten Strukturen, so klein wie 6nm in der Größe, bis zu den kompliziertesten Strukturen wie großflächige Vias, eingebettete Features und Überlagerungen. Darüber hinaus bieten dynamische Bildgebung und KE-Erkennung beispiellose Genauigkeits- und Analysefunktionen. Die NanoSpec 9010 verfügt ebenfalls über robuste Verzerrungs- und Fluktuationsanalysen (DFA/DFA) und Edge Noise Inspection (ENI) -Funktionen, die es ermöglichen, ein breites Spektrum an Ungleichmäßigkeit und Astigmatismus sowohl an Masken- als auch an Waferabschnitten zu messen. Als solches ist die Einheit ideal für Sub-Nanometer-Registrierungs- und Overlay-Anwendungen, wie die Registrierung von Kontakt- und Ladeausrichtschichten, die eine verbesserte Ausbeute im Produktionsprozess ermöglichen. Im Step-Scan-Modus verfügt NANOMETRICS NanoSpec 9010 über eine beispiellose Auflösung von 0,5 Nanometer, die höchste Genauigkeit und Präzision ermöglicht, die bei der Messung extrem kleiner Merkmale bis zu 6 Nanometer erreicht werden kann. Die Maschine verfügt auch über einen optionalen Overlay Sub-Nanometer-Modus, der es ermöglicht, Sub-Nanometer-Overlay-Messungen mit wiederholbarer Genauigkeit zu liefern. NanoSpec 9010 bietet einzigartige Bildgebungs- und Analysefunktionen mit einer unglaublich leistungsstarken Software-Suite. Kern des Werkzeugs ist die einzigartige 360 ° -Bildgebung, die es ermöglicht, Messungen im Nanometermaßstab sowohl in vertikaler als auch in horizontaler Richtung leicht zu vergleichen und zu analysieren. Die Kombination aus Bilderfassungs-, Analyse- und Berichtsfunktionen liefert unübertroffene Ergebnisse für Anwendungen zur Messung kritischer Dimensionen, Overlays, Verzerrungen und Schwankungen und Kantenrauschen. Zusammenfassend ist NANOMETRICS NanoSpec 9010 ein unvergleichliches Asset für CD- und Overlay-Masken- und Wafer-Inspektionsanwendungen. Mit überlegenen Auflösungs-, Bildaufnahme- und Analysefunktionen sowie DFA/DFA und ENI bietet das Modell ein beispielloses Maß an Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit. Darüber hinaus verfügt NanoSpec 9010 über eine intuitive und leistungsstarke Software-Suite, die die Bedienung und Überwachung der Ergebnisse vereinfacht. Als solche ist die Ausrüstung die ideale Wahl für Ingenieure und Produktionspersonal in fortgeschrittenen Halbleitermasken- und Waferinspektionsanwendungen.