Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 9100 #9271374 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 9100 ist eine modernste Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung von NANOMETRICS. Es ist ein Spitzenwerkzeug für die genaue Untersuchung und Messung von Photolithographiemasken und Wafern. Die NanoSpec 9100 verfügt über ein präzises Sichtfeld von 42 cm x 43 cm und bietet maximale Flexibilität für Inspektionsmöglichkeiten. Dieses innovative System nutzt ein ausgeklügeltes Abbildungsoptik-Array, um einzelne Bilder jeder Schicht einer Photolithographie-Maske oder eines Wafers zu erfassen. Die Bilder werden dann auf etwaige Mängel ausgewertet, so dass Benutzer etwaige Anomalien so schnell wie möglich erkennen und beheben können. Das Gerät hat zwei Hauptkomponenten: die Camera Navigation Machine (CNS) und das Image Overlap Tool (IOT). Das CNS verwendet eine Vielzahl von Algorithmen, um das Abbildungsoptik-Array genau über die Oberfläche der Maske oder des Wafers zu navigieren und sicherzustellen, dass alle Bereiche inspiziert werden. Der IOT kombiniert bis zu 8 Bilder mit einem patentierten Blend-Algorithmus, um die Klarheit zu maximieren und sicherzustellen, dass kleine Fehler richtig erkannt und quantifiziert werden können. NANOMETRICS NanoSpec 9100 ist auch in der Lage, erweiterte Analyseoperationen wie automatisierte Messung und Erkennung kritischer Dimensionen, Linienbreiten, Überlagerungsfehler und Prozessfensterqualifizierung durchzuführen. Es verfügt über eine Benutzeroberfläche, mit der Benutzer das Tool einfach verwalten und steuern können, was eine schnelle und genaue Datenerfassung ermöglicht. Neben seinen beeindruckenden Funktionen bietet NanoSpec 9100 auch eine unvergleichliche Leistung. Es kann mehr als 8.000 Bilder pro Stunde mit hoher Genauigkeit verarbeiten und ermöglicht schnelle Messungen und Erkennung. Darüber hinaus ist die Anlage äußerst zuverlässig konzipiert, um sicherzustellen, dass sie über einen langen Zeitraum kontinuierlich arbeiten kann. NANOMETRICS NanoSpec 9100 ist ein modernes Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das höchste Genauigkeit und Zuverlässigkeit für photolithographische Anwendungen bietet. Die präzise optische Abbildungsoptik, die benutzerfreundliche Oberfläche und die automatisierten Analysefunktionen machen es zu einem leistungsfähigen und unverzichtbaren Werkzeug für jede Photolithographie-Anlage.