Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 181 #9398849 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 181
ID: 9398849
Thin film thickness measurement system.
NANOMETRICS NanoSpec AFT 181 ist eine Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung, die Kunden mit der branchenführenden Genauigkeit und Durchsatz sie benötigen. Dieses System nutzt fortschrittliche Elektronik- und Optiktechnologien, die höchste Präzision, höchste Genauigkeit und höchsten verfügbaren Durchsatz liefern. Darüber hinaus kann das Gerät so konfiguriert werden, dass es nahezu alle Anforderungen an Inspektionsanwendungen erfüllt, die ein Kunde möglicherweise benötigt. NanoSpec AFT 181 verwendet fortschrittliche Autofokussierungstechnologie (AFT), um den Fokus der Optik basierend auf dem Wafer- oder Maskenmuster automatisch anzupassen. Diese Technologie sorgt dafür, dass die Inspektion bei möglichst hoher Auflösung effizient und präzise erfolgt. Die Maschine verfügt auch über eine Dual-Laser-Quelle, so dass sowohl Hellfeld und Dunkelfeld Bildgebung nach Bedarf. Dies bedeutet, dass das Werkzeug auf einfache Weise an verschiedene Aufgaben wie Lithographie und Ätzprüfung, Fehlerüberprüfung und Korrektur anhand verschiedener Masken- und Wafermuster und Retikelprüfung angepasst werden kann. NANOMETRIE NanoSpec AFT 181 bietet eine breite Palette von Sensoren und Optik sowohl für die Oberflächenprüfung als auch für das Querschnittsprofil. Für die Oberflächeninspektion können hochauflösende optische Inspektionen von Masken, Wafern und Substraten durchgeführt werden. Darüber hinaus unterstützt es eine Vielzahl von Wafer- und Masken-Scan-Modi, einschließlich Kachelscannen, kontinuierliches Scannen mit einem Durchlauf und hocheffizientem Dual-Pass-Scan-Modus. Für Querschnittsprofilprüfungen verfügt die Anlage über ein In-Board-Spektralphotometer. Dadurch wird sichergestellt, dass eine hochauflösende Messtechnik der Proben erreicht wird. Das Spektralphotometer verwendet fortschrittliche 3D-Bildgebung, um die Form der Probe zu messen, und liefert genaue Daten über die Höhe, Breite und Topologie der Probe. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine Vielzahl zusätzlicher Komponenten, die alle als komplette Inspektionslösung zusammenarbeiten. Zu diesen Komponenten gehören erweiterte Bilderfassungs- und Vorverarbeitungshardware sowie fortschrittliche Berichts- und Analysesoftware, mit der Kunden Fehler schnell erkennen und Wafer- und Maskenproduktionsprozesse überwachen können. NanoSpec AFT 181 bietet seinen Kunden eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die Genauigkeit, Durchsatz und Flexibilität in einem kompakten, einfach zu bedienenden Paket liefert. Mit seiner robusten Optik, den Algorithmen mit hoher Niveauänderung und fortschrittlichen Bildverarbeitungstechniken bietet dieses System den Kunden die Zuverlässigkeit und Genauigkeit, die sie benötigen, um die Qualität ihrer Teile sicherzustellen.
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