Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 200 #9386650 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 200
ID: 9386650
Thickness measurement system.
NANOMETRICS NanoSpec AFT 200 ist ein Masken- und Wafer-Inspektionsgerät, das fortschrittliche automatisierte Techniken verwendet, um beide Seiten der Maske und der Waferoberfläche sowie den Rand des Wafers vollständig zu inspizieren. Dieses System wurde entwickelt, um mikroskopische Defekte zu erkennen, die in Strukturen wie sehr kleinen Partikeln, Gruben, Knoten und Oberflächenlücken vorkommen können. Es verwendet ein Feld programmierbares Gate-Array (FPGA), um Fehler auf der Oberfläche des Wafers und der Maske genau zu erkennen und zu identifizieren. Der erste Schritt dabei ist die Übertragung von Wafer und Maske auf die AFT 200 Inspektionsstufe in der Vakuumumgebung. Dadurch wird sichergestellt, dass der Staub und andere Verunreinigungen aus der Umgebung und der Oberfläche des Wafers und der Maske entfernt werden. Die Stufe umfasst sowohl eine hochauflösende als auch eine nichtabbildende Detektionseinheit. Das bildgebende Teilsystem verwendet eine hochauflösende Digitalkamera, um mehrere Bilder auf der Masken- und Waferoberfläche zu erfassen. Das nicht bildgebende Detektionssubsystem verwendet eine Laserbeam-Profilabtasttechnik, um Fehler zu erkennen, die auf der Masken- und Waferoberfläche vorhanden sein können. Der Laserstrahl dient zur Erkennung von Defektprofilen mit speziellen bildgebenden Verfahren, die dann bearbeitet und analysiert werden, um eventuelle Defekte auf der Oberfläche zu erkennen. Die von der AFT 200 aufgenommenen Bilder werden in ihrem Speicher gespeichert und mit proprietären Bildanalysetechniken analysiert. Die Bilder werden mit der vor der Inspektion erstellten Konstruktionsdatei verglichen und eventuelle Abweichungen erkannt und gemeldet. Dadurch kann das Gerät eventuell vorhandene Defekte oder Anomalien erkennen. Die Maschine NanoSpec AFT 200 ist in der Lage, eine sehr zuverlässige und genaue Fehlerinspektion durchzuführen und kann selbst subtile Defekte auf beiden Seiten der Maske und des Wafers erkennen. Das Tool bietet Benutzern detaillierte Berichte über erkannte Fehler, so dass sie alle eventuellen Probleme genau identifizieren und beheben können. Das Asset kann auch zur Analyse von Renditedaten verwendet werden und bietet wertvolle Einblicke in Fertigungsprozesse. Das Modell ist zudem sehr benutzerfreundlich konzipiert und kann einfach von den Bedienern programmiert werden, um den gesamten Inspektionsprozess auszuführen und zu überwachen. Diese Geräte können verwendet werden, um Wafer- und Maskenproben schnell zu untersuchen und zu analysieren, sodass Benutzer mögliche Fehlerprobleme schnell erkennen und beheben können. Darüber hinaus ist das System hochflexibel und kann problemlos in andere Automatisierungssysteme integriert werden. So können Anwender die AFT 200 in jede Produktionsumgebung integrieren und schnell ihr volles Potenzial ausschöpfen. Insgesamt ist NANOMETRICS NanoSpec AFT 200 eine ideale Masken- und Wafer-Inspektionseinheit für Benutzer, die Fehlerprobleme auf der Maske oder den Waferoberflächen identifizieren und beheben möchten. Die fortschrittlichen automatisierten Techniken bieten genaue, zuverlässige und detaillierte Berichte über erkannte Fehler, so dass Benutzer Probleme schnell erkennen und beheben können. Darüber hinaus ist die Maschine dank ihrer Flexibilität und Benutzerfreundlichkeit eine gute Wahl für jeden automatisierten Inspektionsprozess.
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