Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #293656608 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 von NANOMETRICS ist eine professionelle Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung für die Halbleiterherstellung. Es bietet Masken- und Wafer-Bildgebung über hochauflösende Streuung sowie hochgenaue In-Die-Messtechnik. Das System verfügt über eine integrierte 20x Vergrößerung Bild gut, die automatisierte Wafer Funktionen Inspektion durchführt und eine oben nach unten 3.5x Bild gut, das bietet ein größeres Sichtfeld über den gesamten Wafer zu sehen. Die Inspektionseinheit unterstützt optische Masken- und Waferbildgebung, Überwachung und Auswertung von Lithographiemustern, Masken- und Wafernähten sowie In-die-Messtechnik. NANOMETRICS NANOSPEC/AFT 210 verfügt über eine vollautomatische Wafer-Mapping-Fähigkeit, so dass sie sowohl optische als auch streuende Daten für die verschiedenen Aspekte eines Masken- oder Wafer-Herstellungsprozesses wie Fehlerdichte und Overlay-Messungen schnell erfassen kann. Die Streulichtbildgebung unterstützt eine breite Palette von Wellenlängenbereichen und ermöglicht die Inspektion verschiedener Prozesse und Geometrien. Es kann Muster mit Linienbreiten so klein wie 0,018 Mikrometer erkennen. Für präzise In-Die-Messtechnik-Messungen verwendet die Maschine ihren bordeigenen Messtechnik-Sensor, der sowohl hohe Genauigkeit als auch hohe Auflösung bietet. Es kann überlappende, mehrschichtige Muster innerhalb weniger Nanometer messen. Das Werkzeug kann auch Fehler, Versteifen/Kippen und andere Unregelmäßigkeiten erkennen und messen. In Bezug auf die Benutzerfreundlichkeit verfügt das Asset über eine benutzerfreundliche Touchscreen-Oberfläche, so dass Benutzer das Modell schnell einrichten und bedienen können. Es bietet auch eine Vielzahl von Software-Tools für Datenanalyse und Manipulation. Das Gerät bietet die Möglichkeit, zusätzliche messtechnische Werkzeuge wie eine mehrfache thermische Lithographie und ein fortschrittliches Messtechniksystem zu integrieren. Insgesamt ist NanoSpec AFT 210 von NANOMETRICS eine ausgezeichnete Option für die Halbleiterherstellung, die alle Ihre Inspektions- und Messtechnik-Anforderungen erfüllt. Mit seiner hochauflösenden Bildgebung und der automatisierten Wafer- und Maskenzuordnung können Sie Genauigkeit und Qualität während Ihrer gesamten Produktionsabläufe gewährleisten.