Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #9086405 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 Maske & Wafer Inspektionsausrüstung von NANOMETRICS ist ein fortschrittliches Metrologie-Instrument, das für die zerstörungsfreie Inspektion kritischer elektronischer Geräte entwickelt wurde. Das System ist mit einer ultrahochauflösenden Bildaufnahmeeinheit und einer Rasterelektronenmikroskop (SEM) -Optik für schnelle, genaue Bildgebung ausgestattet. Es verfügt über eine einzigartige Auto-Fokus-Technologie, die ultrascharfe Bilder mit überlegener Genauigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. Diese Maschine bietet auch Hochgeschwindigkeits-Mapping-Funktionen, die eine schnelle Bildgebung, Analyse und Diagnose einer breiten Palette von Materialien ermöglichen. Das automatisierte Handling-Asset des Tools umfasst einen automatisierten 8-Punkte-Autofokus-Ausrichtungsprozess, eine präzisionsgesteuerte Waferstufe und eine Mustererkennungssoftware. Mit diesem Modell kann der Bediener die Abbildungsparameter mit minimalem Aufwand einfach festlegen und anpassen. Die hochempfindliche AutoFocus-Technologie sorgt für eine präzise Bildausrichtung und die rasterelektronenmikroskopische Optik bietet höchste Auflösung mit höchster Genauigkeit. NANOMETRIE NANOSPEC/AFT 210 unterstützt auch viele verschiedene Bild- und Analysefunktionen, einschließlich Flächendefektmapping und Hellfeld/Dunkelfeld-Analyse. Das Gerät ermöglicht eine Reihe von Bildsegmentierungsoptionen, um Fehler für die Analyse zu trennen und anzuzeigen. Darüber hinaus unterstützt es Snap-Shot-Kalibrierung und automatisierte Maskenausrichtung. NanoSpec AFT 210 verfügt auch über ein leistungsfähiges Softwarepaket. Die Software-Suite enthält eine integrierte Suite von Mess- und Analysetools, wie statistische Analysen und eingebaute Skripte zur Prozessoptimierung. Diese Werkzeuge ermöglichen die Extraktion detaillierter messtechnischer Informationen aus Bildern. Es verfügt auch über leistungsstarke Netzwerkverbindungsfunktionen, die die gemeinsame Nutzung von Ergebnissen in Echtzeit ermöglichen. Insgesamt ist NANOSPEC/AFT 210 ein leistungsfähiges, wirtschaftliches und einfach zu bedienendes Masken- und Wafer-Inspektionssystem. Es bietet eine Reihe fortschrittlicher messtechnischer Funktionen, wie automatisierte 8-Punkte-Autofokus-Ausrichtung, hochempfindliche Mikroskopie-Optik und Bereichsdefekt-Mapping-Funktionen. Es verfügt auch über eine robuste Software-Suite mit einer breiten Palette von Mess- und Analysewerkzeugen. Es ist eine ideale Wahl für Fertigungs- und Messtechnik-Profis.