Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #9197542 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 210
ID: 9197542
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1993
Automatic film thickness system, 8" 1993 vintage.
NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die entwickelt wurde, um Halbleiterherstellern hochauflösende Inspektions- und Fehlerlokalisierungsfunktionen zur Verfügung zu stellen. Dieses System wurde entwickelt, um Fehler an Masken und Wafern zu erkennen und zu untersuchen, die möglicherweise nicht durch andere bildgebende Technologien sichtbar sind. Das Gerät verwendet fortgeschrittene Falschfarben- und Photonen-Wellenlängendetektoren, damit Benutzer die minutengenauen Details komplexer Muster auf Masken und Wafern anzeigen können. Die Falschfarbenmaschine erleichtert die Erkennung sehr kleiner Defekte, während der Photonenwellenlängendetektor Übergänge oder Muster identifiziert, die durch Defekte erzeugt werden. Dieses Werkzeug arbeitet auch in einem vollen Referenzmodus, um eine höhere Auflösung für die Fehlererkennung bereitzustellen. Darüber hinaus kann NANOMETRICS NANOSPEC/AFT 210 in Kombination mit anderen nicht-bildgebenden Verfahren wie Elektronenstrahl oder Röntgenstrahl für noch erweiterte Inspektionsmöglichkeiten eingesetzt werden. NanoSpec AFT 210 verfügt auch über ein erweitertes Bildverarbeitungsmaterial, das es dem Benutzer ermöglicht, Bilder aus verschiedenen Blickwinkeln zu studieren und eine tiefe Analyse von Fehlern zu ermöglichen. Das Modell nutzt ausgeklügelte bildgebende Technologien wie die optische und/oder rasterelektronenmikroskopie, um Defekte mit höherer Genauigkeit zu identifizieren. NANOSPEC/AFT 210 verfügt über eine integrierte Datenanalyse-Software, die eine schnelle Verarbeitung von Bildern und Daten ermöglicht. Es ist auch für eine effiziente Datenweitergabe konzipiert, die über ein Netzwerk oder direkt auf einen PC oder Server erfolgen kann. Darüber hinaus verfügt das System über eine intuitive und benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche, mit der Benutzer schnell und einfach auf Daten zugreifen können, ohne dass umfangreiche Schulungen erforderlich sind. Das Gerät ist sowohl zuverlässig als auch wartungsfreundlich, da es mit hochwertigen Komponenten hergestellt wird und nur wenige bewegliche Teile aufweist. Dies gewährleistet präzise und wiederholbare Ergebnisse sowie eine verbesserte Maschinenstabilität und Langlebigkeit. NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 ist auch für die schnelle und einfache Einrichtung und Konfiguration konzipiert, so dass Benutzer eine optimale Arbeitseinrichtung schnell und problemlos erreichen können. Insgesamt ist NANOMETRICS NANOSPEC/AFT 210 ein fortschrittliches, zuverlässiges und benutzerfreundliches Masken- und Waferinspektionswerkzeug. Seine hochauflösenden Bildgebungsfunktionen, kombiniert mit seiner effizienten Datenanalysesoftware, sorgen für schnelle und genaue Ergebnisse. Ob allein oder in Kombination mit anderen bildgebenden Techniken, dieses Kapital ist ideal für Halbleiterhersteller und andere Anwendungen, die genaue und umfassende Masken- und Wafer-Inspektionen erfordern.
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