Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #9197546 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 210
ID: 9197546
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1993
Automatic film thickness system, 8" 1993 vintage.
NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 ist eine fortschrittliche und effiziente Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung. Es handelt sich um ein halbautomatisches System zur Identifizierung und Verwaltung von Fehlern an Filmen, Mustermasken und Photolithographie-Wafern. Der AFT 210 verwendet fortschrittliche Bildverarbeitungs- und Analysealgorithmen, um Anomalien oder Defekte an kritischen inspizierbaren Funktionen auf Masken und Wafern zu erkennen. Merkmale wie Linienbreiten, kritische Abmessungen, Fehlerkriterien und Merkmalszusammensetzungen können detailliert untersucht werden. Das Gerät ist mit einer CCD-Kamera, einem hellen und kontrastreichen Licht und einer proprietären Bildgebungssoftware ausgestattet, die genaue und zuverlässige Ergebnisse ermöglicht. Die Maschine ist für verschiedene Inspektionen ausgelegt, je nach Bedarf. Automatisierte KE und Fehlerinspektion, visuelle Inspektion, Maskensymmetrie und Analyse sowie Gesichtsebenenmessung werden unterstützt. Inspektionsergebnisse werden automatisch in einem benutzerfreundlichen Berichtsformat zusammengestellt, sodass Kunden die Ergebnisse einfach nach ihren eigenen Qualitätskontrollstandards überprüfen und quantifizieren können. Neben der Automatisierung des Inspektionsprozesses bietet die AFT 210 auch leistungsstarke Extraktionswerkzeuge zur Analyse von Ergebnissen. Dazu gehören Fotomontagevergleiche, Wafermusterauswertungen und Datenanalysetools. Tools wie X-Y-Diagramm, parametrische Analyse und Statistik-Zusammenfassung liefern detaillierte Informationen über die geprüften Funktionen, so dass Benutzer geschulte Entscheidungen über die Leistung ihrer Geräte treffen und Korrekturmaßnahmenpläne erstellen können. Das Tool bietet die Skalierbarkeit, um sich an kundenspezifische Bedürfnisse anzupassen. Fortschrittliche Automatisierung und Asset Interconnectivity können auf unterschiedliche Anforderungen zugeschnitten werden. Das Modell AFT 210 eignet sich für eine Vielzahl von Filmen, Masken und Photolithographie-Wafern, einschließlich aller wichtigen CMOSb und Spitzentechnologien. Es ist auch mit automatisierter Konnektivitätsunterstützung ausgestattet, die eine größere Interoperabilität mit anderen Peripheriesystemen ermöglicht. Schließlich verfügt die AFT 210 über strenge Branchenzertifizierungen und die Einhaltung internationaler Standards, die optimale Funktionalität und Leistung gewährleisten. Dank der robusten Konstruktion und der fortschrittlichen Technologie eignet es sich ideal für serienreiche Fertigungslinien und Forschungs- und Entwicklungslabore.
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