Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #9226128 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 ist eine robuste und anspruchsvolle Masken- und Wafer-Inspektionsanlage. Das von NANOMETRICS, einem weltweit führenden Hersteller von optischen Messtechnikgeräten, entworfene und hergestellte System bietet fortschrittliche Funktionen und Funktionen, mit denen Benutzer Lithographiefehler auf Wafer- und Maskenoberflächen erkennen können. Neben seiner branchenführenden optischen Leistung bietet das Gerät auch nützliche Ausrichtungs- und Ausrichtungsleistungsfunktionen, um präzise Maskierungsoperationen zu ermöglichen. Die Maschine besteht aus mehreren Komponenten, darunter eine integrierte Messtechnik-Software, zwei hochauflösende Kameras und ein kundenspezifisches Beleuchtungspaket. Die Software bietet Anwendern leistungsstarke, flexible und einfach zu bedienende Systeme zur Bilderfassung, Analyse und Messtechnik. Die Kameras unterstützen HiSIM, HiMTF und Overlay-Messungen und ihre hochauflösenden Funktionen machen sie ideal für die Hochdurchsatz-Masken- und Wafer-Stanzprüfung. Das kundenspezifische Beleuchtungspaket liefert intensives, einheitliches Licht, um Bilder und Ergebnisse höchster Qualität zu gewährleisten Das Werkzeug verfügt über vier Messmodi, einschließlich Maske Photostrom, Beschichtungsqualität und Resist Film Inspektion. Der Modus Maske Photocurrent prüft den Wafer auf Aberrationen, während der Modus Beschichtungsqualität die äußere Schicht des Wafers untersucht. Der Widerstandsfilm-Inspektionsmodus hilft bei der Identifizierung von Fehlern oder Änderungen in der Widerstandsschicht. Das Asset unterstützt auch eine Vielzahl von verschiedenen Dateiformaten, so dass es ideal für die Verwendung mit einer Reihe von Software-Programmen. Das Modell bietet auch einen fortschrittlichen Fokusmechanismus, der konsistente und wiederholbare Messungen über die gesamte Maske oder den Wafer durchführt. Weitere Merkmale sind Messungen der Überlagerungsausrichtung von Retikel zu Retikel sowie Ausrichtungsgenauigkeit und Analysefunktionen. Das Gerät verfügt auch über NANOMETRICS AssistIQ-Software, die Anwendern einen geführten und intuitiven Bildanalyseprozess bietet. Insgesamt ist NANOMETRICS NANOSPEC/AFT 210 ein äußerst ausgefeiltes und präzises Masken- und Waferinspektionssystem. Die fortschrittlichen Funktionen und Funktionen bieten hochwertige Bilder und erstklassige Ergebnisse und helfen Benutzern, Lithographiefehler oder -fehler schnell und genau zu erkennen. Die flexible und benutzerfreundliche Software sorgt dafür, dass Benutzer das Gerät in jeder Umgebung richtig nutzen können.