Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #9265791 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 210
ID: 9265791
Thickness measurement system.
NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die für eine Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden kann, einschließlich Overlay-Messung, Fehlerinspektion und Prozesskontrolle. Dieses System bietet erweiterte Funktionen wie Autofokus, ultraschnelle Automatisierung und eine einzigartige 3D-Bildgebung. Das Gerät verwendet ein patentiertes 3D-Bildgebungsverfahren, mit dem sowohl Oberflächen- als auch Unterflächendefekte präzise erkannt werden können. Dies geschieht durch Kombination von optischer Kohärenztomographie (OCT) und anderen bildgebenden Verfahren. OCT ist ein interferometrisches bildgebendes Verfahren zur zerstörungsfreien Abbildung von Oberflächen und Materialien. NANOMETRIE NANOSPEC/AFT 210 ist in der Lage, mehrere Schichten gleichzeitig mit einer Auflösung von bis zu 10nm abzubilden. Die Maschine ist sowohl für den Einsatz in Produktionsumgebungen als auch für den Einsatz im Labor konzipiert. Es verfügt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, die Auftragssteuerung, Musterauswahl und einen KE-Erkennungs-Assistenten umfasst. Es bietet auch die Möglichkeit, benutzerdefinierte Jobs zu erstellen, um bestimmte Benutzeranforderungen zu erfüllen. Das Tool ist mit einer hochauflösenden CCD-Kamera zur erweiterten Bildaufnahme und -analyse ausgestattet. Es hat auch einen Hochgeschwindigkeitsautofokussierungsvermögenswert, der zu Scangeschwindigkeiten bis zu 0,5 Sekunden pro Linie fähig ist. Dies ermöglicht eine schnelle und genaue Fehlererkennung und Prozesskontrolle. Das Kameraobjektivmodell ermöglicht auch eine variable Vergrößerung bis zu 2400 X. Das Gerät verfügt über ein integriertes Dual-Beam-optisches System, das genaue und präzise Overlay-Messungen gewährleistet. Der Doppelstrahl arbeitet im sichtbaren und spektralen Bereich. Es enthält auch eine Laser-Kollimationseinheit, ein Dünnfilm-Messtechnik-Tool und ein Dunkelfeld-Mikroskop. Es ist nach SEMI-Standard S13 für automatisierte Masken- und Wafer-Inspektion zertifiziert. NanoSpec AFT 210 wurde entwickelt, um hervorragende Bildgebungs-, Analyse- und Datenverarbeitungsfunktionen zu bieten. Diese Maschine bietet Zuverlässigkeit, Genauigkeit und eine schnelle Durchlaufzeit und ist somit eine ideale Wahl für die Masken- und Waferinspektion. Es ist in der Lage, detaillierte Bilder sowie präzise Profile für Oberflächen und Unterflächendefekte bereitzustellen.
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