Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #9280739 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 ist eine umfassende Masken- und Waferinspektionsanlage für die frontseitige Messtechnik, Fehlererkennung und Funktionsanalyse. Dieses System wurde für den Einsatz in der Halbleiterherstellung entwickelt und bietet eine benutzerfreundliche Plattform zur Automatisierung von Inspektionsprozessen. Diese Plattform verfügt über kleinteilige Analysefunktionen für Wafer bis zu 25 mm. Das Gerät verwendet nanoskalige Verdrängersensortechnologie, um Photolithographiefehler, Oberflächenprofile und andere Merkmale an ICs, Mikroteilen und anderen Komponenten zu messen. Die Maschine unterstützt auch die Fehlererkennung auf nanoskaliger Ebene mit Funktionen wie aktuelle Analyse, optische Fehlerinspektion und Footprint-Analyse. NANOMETRICS NANOSPEC/AFT 210 bietet eine Reihe von Bildanalyse und Messfunktionen, um seine Fähigkeiten zu verbessern. Ein integriertes Merge/Split-Tool ermöglicht die Korrelation von Waferbildern mit ihren Komponentenparametern. Die Kantenerkennungsalgorithmen helfen, die Genauigkeit von Merkmalsmessungen zu verbessern, während eine integrierte quantitative Fehlerbibliothek eine praktische visuelle Hilfe für die Einrichtung und Analyse von Mess- und Fehlerbedingungen bietet. Die benutzerfreundliche Benutzeroberfläche des Objekts ermöglicht es den Operatoren, einfach Parameter auszuwählen, die gesammelten Daten anzuzeigen und Ergebnisse zu analysieren. Es bietet auch einen automatisierten Fehlerüberprüfungsmodus, um die Qualitätskontrolle zu optimieren. Es ist mit einer Hochgeschwindigkeits-AutoFocus-Funktion für zuverlässige Bildgebung und einer ausgestatteten Mehrwinkel-Messfunktion ausgestattet, mit der bis zu zwei Winkel gleichzeitig gemessen werden können. Das Modell verfügt auch über konfigurierbare Prüfmodi, um Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. NanoSpec AFT 210 bietet eine effiziente und umfassende Lösung für die Masken- und Waferinspektion. Seine nanoskaligen Fehlererkennungsfunktionen, benutzerfreundliche Schnittstelle, High-Speed AutoFocus-Funktion und umfangreiche Bildanalyse- und Messfähigkeiten machen es zu einer zuverlässigen und effizienten Plattform für die Qualitätskontrolle im Halbleiterherstellungsprozess.