Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100 #9100828 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100
ID: 9100828
Wafergröße: 6"
Film thickness analyzer, 6".
NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100 ist ein leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das eine überlegene Bildgebung für eine Reihe von Halbleiter-Wafertypen bietet. Es wurde entwickelt, um die Anforderungen der anspruchsvollsten Halbleiterprozesstechnologien zu erfüllen, einschließlich Multimuster, fortschrittliche Lithographie und EUV-basierte Anwendungen. NanoSpec AFT 2100 bietet eine beispiellose Auflösung und Bildgebungstreue, so dass Tests und Inspektionen nach Branchenstandard präzise und effizient durchgeführt werden können. Das System ist mit einer Doppelstrahl-optischen Säule ausgestattet, die eine gleichzeitige Abbildung der Ober- und Unterseite des Wafers ermöglicht und somit eine gleichzeitige Fehlerinspektion ermöglicht. Es bietet auch überlegene Empfindlichkeit für kontrastarme Defekte und verfügt über spezielle Optik, die die Erkennung von Defekten von sub-20nm Größe ermöglicht. NANOMETRIE NanoSpec AFT 2100 ist in der Lage, Standard-Wafertypen, wie 8 „, 12“ und 16 „Wafer, sowie den Betrieb auf spezialisierten Metrologie-Wafern bis 21“ Durchmesser zu erfassen und zu verarbeiten. Es ist mit einer Reihe von Funktionen wie einer Hochgeschwindigkeitsspinnstufe, Autofokus-Fähigkeit und dreidimensionaler Bildprofilierung ausgestattet, um die Bildqualität und -genauigkeit zu verbessern. NanoSpec AFT 2100 ist auch mit einer erweiterten Fehleranalyse-Software-Suite ausgestattet, die Routineinspektionen automatisiert und hilft, Fehlalarmraten zu reduzieren. Die eingebauten Fehlerklassifizierungsalgorithmen ermöglichen die Analyse und Klassifizierung von Fehlern mit einer Rangfolge von 0 bis 5. Darüber hinaus verfügt es über eine automatisierte Analyseoption, mit der spezifische Defektmerkmale wie Verschmutzungen, Musterfehler und FIB-Schäden schnell ermittelt und isoliert werden können. Die fortschrittlichen bildgebenden Funktionen von NANOMETRICS NanoSpec AFT 2021 machen es zur perfekten Wahl für Halbleitermasken- und Wafer-Inspektionsoperationen. Es bietet überlegene Auflösung und Bildgebungstreue sowie automatisierte Fehleranalyse und Klassifizierung. Es verfügt auch über erweiterte Funktionen wie Hochgeschwindigkeitsstufenrotation, Autofokus-Funktionen und dreidimensionale Bildprofilierung, um überlegene Bildqualität und Genauigkeit zu gewährleisten.
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