Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100 #9400848 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100 ist eine vollautomatische Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die für High-End-Produktionsumgebungen entwickelt wurde und eine breite Palette von Fähigkeiten für die Inline-Fehlererkennung und -überprüfung bietet. NanoSpec AFT 2100 bietet eine schnelle, vielseitige Funktionsprüfung und Fehlererkennung für eine Vielzahl von Masken-, Photomasken- und Stempelprodukten der nächsten Generation. Die primäre Systemkonfiguration umfasst dedizierte Feldsysteme, die jeweils aus einem bildgebenden Revolver bestehen, mit sowohl ultravioletten als auch Typ-III-Lichtquellen und einem speziellen Pixelfiltermodul. Der Abbildungsrevolver besteht aus zwei Objektivlinsen, die auf einem festen Gelenkarm montiert sind. Diese Linsen erfassen Licht über ein Doppelwellenlängenspektrum und ermöglichen sowohl Fern- als auch Nahfeldinspektionen. Der bildgebende Revolver verfügt auch über eine digitale Zoomeinheit, die zur Optimierung des Scanbereichs verwendet werden kann und eine schnelle Inspektion der gesamten Maske oder des Wafers ermöglicht, ohne dass eine Neupositionierung erforderlich ist. Die separate Pixelfiltermaschine wurde entwickelt, um die vom Bildrevolver gesammelten Daten zu analysieren und mit vordefinierten Funktionsdichten, -größen, -formen und -gradienten zu vergleichen. Wenn sich ein Feature außerhalb des Bereichs befindet, wird eine automatische Warnung generiert. Das Tool ist auch mit einer Reihe von erweiterten Inspektionsmöglichkeiten ausgestattet, einschließlich automatischer Merkmals- und Fehlererkennung, Overlay-Bildgebung und Linien/Raum-Identifikation, unter vielen anderen. Das Asset kann auch für mehrere Standorte konfiguriert werden, was eine gleichzeitige Inspektion auf mehreren Wafern und Masken ermöglicht, die Arbeit reduziert und die Gesamteffizienz erhöht. Darüber hinaus kann das Modell für die optische und Dunkelfeldmikroskopie verwendet werden, sodass der Benutzer Fehler überprüfen und kritische Merkmale überprüfen kann, die im normalen Betrieb möglicherweise nicht sichtbar sind. NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100 bietet auch eine Reihe von Bildanalysen und Nachbearbeitungsmöglichkeiten. Durch Software wie ImageJ und NIST Image Analysis Objects können Anwender schnell und einfach detaillierte nachverarbeitete Bilder ihrer Zielform oder -maske erstellen. Mit diesem Feature Set können Anwender potenzielle Fehler schnell diagnostizieren und darauf reagieren, was die Produktivität und den Ertrag in Produktionsumgebungen insgesamt erhöhen kann. Insgesamt ist NanoSpec AFT 2100 eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die den Inspektionsprozess vereinfachen und beschleunigen kann und eine breite Palette von Funktionen, hohe Genauigkeit und schnelle Nachbearbeitungsfähigkeit bietet. Es ist ein ideales Werkzeug, um eine hohe Fehlerausbeute und eine verbesserte Gesamtproduktionsleistung zu erzielen.