Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100 #96637 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100 ist eine umfassende Masken- und Waferinspektionsanlage. Mit fortschrittlicher Scan- und Bildgebungstechnologie ist das System in der Lage, kleinere Defekte in Masken und Wafern zu erkennen, die in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet werden. Darüber hinaus bietet das Gerät eine automatisierte Fehlerklassifizierung, die den Inspektoren einen systematischen Prozess zur schnellen und genauen Erkennung von Fehlern in großen Ausbeuten von Geräten bietet. Die AFT 2100 nutzt sichtbares Licht, um mikroskopische Defekte in Masken und Wafern zu erkennen und zu analysieren. Es verfügt über einen hochempfindlichen optischen Kopf und eine hellere Lichteinfallsquelle, die eine genaue Darstellung komplexer Topologien ermöglicht und eine Hochgeschwindigkeitsprüfung ermöglicht. Die Maschine beinhaltet auch Spektralanalysen, die es ermöglichen, kleinere Unterschiede in der spektralen Reflexion in verschiedenen Defekten, wie Hohlräume, Verunreinigungen und Risse zu erkennen. Die AFT 2100 ist mit modernsten Bildverarbeitungsalgorithmen und benutzerfreundlichen Bildanalysetools ausgestattet, die eine schnelle Fehlererkennung ermöglichen. Es kann einzelne Mängel automatisch klassifizieren und deren Kritikalität ermitteln. Das Tool verfügt über einen integrierten Integritätsrechner, der systemische Fehler identifiziert. Es bietet auch eine automatisierte Ertragszusammenfassung und -analyse, die die Analyse großer Erträge an Wafern und Masken erleichtert. Die AFT 2100 beinhaltet zudem eine hocheffiziente Fehlerbeseitigungsanlage. Dieses Modell unterstützt Inspektoren bei der Fehlerreduzierung, so dass sie Fehler schnell und genau erkennen und beseitigen können, was die Gesamtqualität der hergestellten Wafer und Masken erhöht. Darüber hinaus ist das Gerät in der Lage, Bilder von getesteten Wafern schnell zu durchschnitten.Dadurch verringert sich die Gesamtzeit für Inspektion und Analyse. Der AFT 2100 ist ein zuverlässiges und vielseitiges Masken- und Wafer-Inspektionssystem; bietet Genauigkeit, Geschwindigkeit und Benutzerfreundlichkeit. Es bietet Inspektoren eine effiziente, effektive und kostengünstige Lösung zur Identifizierung und Beseitigung von Defekten in Masken und Wafern. Seine Kombination aus tiefer Bildauflösung, Spektralanalyse, Fehlererkennung, Klassifizierung und Integritätsrechner macht es zu einem unschätzbaren Werkzeug für Halbleiterhersteller.