Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 210UV #9160099 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 210UV ist eine hochmoderne Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die auf höchste Prüfgenauigkeit ausgelegt ist. Das System kombiniert fortschrittliche Optik und digitale Bildgebungstechnologie mit einer computergesteuerten Scaneinheit, um höchste Prüfgenauigkeit zu erzielen. Die AFT- 210UV bietet Bildanalyse, Fehleranalyse, Fehlergröße und Fehlerabbildung bei Auflösungen unter 50 Nanometern. Die Maschine umfasst zwei lineare Scanstufen, eine galvanometrische Scanstufe und eine diskrete Scanstufe, um eine breite Palette von Scanparametern und Auflösungen zu erzeugen. Die diskrete Scanstufe hat bis zu 10nm Auflösung und ~ 10mm2 Sichtfeld. Alle drei Stufen sind mit einer 12-Megapixel-Kamera kombiniert, die in der Lage ist, Bilder mit außergewöhnlich hoher Geschwindigkeit und Genauigkeit zu erfassen. Darüber hinaus umfasst das Werkzeug einen 16-Bit-Digitalsignalprozessor (DSP), ein feldprogrammierbares Gate-Array (FPGA) und einen Mikrocontroller zur parallelen Bildaufnahme, Fehlersuche und Analyse. Der optische Motor im AFT 210UV wurde entwickelt, um hohe Effizienz und hohe Auflösung für die anspruchsvollsten Inspektionsanwendungen zu liefern. Die erweiterte Optik ermöglicht auch bildgebende Funktionen wie Farbe, Verstärkung, Fokus, Live-Ansichten und Polarisierung. Das AFT 210UV ist mit fortschrittlicher Software und Algorithmen ausgestattet, um eine automatisierte Inspektion zu ermöglichen. Seine erweiterte Analytik und Bildverarbeitungsalgorithmen können verwendet werden, um kleine Fehler auf Wafern und Masken zu erkennen. Das Asset verfügt auch über erweiterte Fehleranalyse-Algorithmen zur genauen Identifizierung, Klassifizierung, Zählung, Größe und Karte Fehler genau auf den Wafern oder Masken. Insgesamt ist NanoSpec AFT 210UV ein leistungsfähiges und zuverlässiges Masken- und Wafer-Inspektionswerkzeug. Es verfügt über eine einzigartige Kombination aus präziser Optik, ultrahoher Bildgebung, hoher Auflösung und fortschrittlichen bildgebenden Algorithmen, um höchste Prüfgenauigkeit zu erzielen. Das Modell ist ideal für kritische Entscheidungen bei der Arbeit an fortschrittlichen Wafer- und Maskenherstellungsprozessen.