Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 212 #9208402 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 212 ist eine hochmoderne automatisierte Masken- und Waferinspektionsanlage, die speziell für die Halbleiterherstellung entwickelt wurde und die modernste Inspektionstechnologie auf dem Markt bietet. Dieses System kombiniert mehrere fortschrittliche Inspektionstechnologien wie Automatic Focus Technology (AFT), NanoSpec Vektor Mapping und eine einstellbare Beleuchtungseinheit, um beispiellose Genauigkeit und Bildqualität in Bezug auf Defekte und andere Anomalien auf den mikroelektronischen Wafern zu bieten. Die Automatic Focus Technology (AFT) besteht aus einem Paar Stereokameras, die die nanoskaligen Merkmale des Wafers basierend auf einer hochauflösenden 3D-Reflexionshöhenkarte fokussieren. Mit AFT können Anwender die Oberflächentopographie der Wafer mit Sub-Nanometer-Genauigkeit genau messen und analysieren. Herkömmliche hochauflösende Mikroskope können dagegen nur Oberflächenmerkmale mit einer Auflösung von etwa 5 Nanometern messen. Die NanoSpec Vektormappingmaschine ermöglicht die Erkennung von Nanoskala-Defekten und anderen Anomalien auf NanoSpec AFT 212. Mit diesem Tool kann ein Benutzer Funktionen auf Nanoskala-Ebene messen, innerhalb von 10% der durch herkömmliche Mikroskope erreichbaren Genauigkeit von 5 nm. Diese Merkmale reichen von Einbuchtungen, Beulen und Kratzern, Überbrückung, Leerstellen, kurze Hosen und vieles mehr. Die einstellbare Beleuchtungskapazität von NANOMETRICS NanoSpec AFT 212 ermöglicht es Benutzern, die Eigenschaften des Wafers präzise zu messen, indem sie die Lichtmenge, den Winkel und die Intensität auf der Waferoberfläche steuern. Dies ermöglicht eine höhere Genauigkeit beim Scannen der kleineren, nanoskaligen Funktionen auf Maske und Wafer. Mit diesem einstellbaren Beleuchtungsmodell ist NANOMETRICS in der Lage, Bilder höchster Qualität für die Fehlererkennung und -analyse bereitzustellen. Darüber hinaus bietet das Gerät eine benutzerfreundliche Benutzeroberfläche, mit der Benutzer verschiedene Einstellungen wie Fokus, Belichtungszeit, Bildgröße und Vergrößerung steuern können. Es verfügt auch über ein integriertes Datenanalysesystem, das es Benutzern ermöglicht, mit der Einheit gewonnene Daten zu speichern, zu analysieren, zu vergleichen und zu überprüfen. Durch hohe Genauigkeit und Zuverlässigkeit ist NanoSpec AFT 212 die ideale Lösung für die Masken- und Waferinspektion auf der mikroelektronischen Produktionslinie.