Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 4000 #9024521 zu verkaufen
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ID: 9024521
Wafergröße: 3"-8"
Film thickness measurement system, 3"-8"
Capable of accommodating wafers from 75mm to 200mm
Olympus 5x, 10x, and 50xULWD objectives
Olympus 10x eyepiece
System Computer and Software
Visible Single Layer Films: 500 – 50,000A
UV Single Layer Films: 25 – 500A
Visible Double (Top) Layer Films: 100 – 30,000A
Visible Double (Bottom) Layer Films: 500 – 50,000A -Single Layer Thick Films Visible: 4 – 75 um
Reflectance Visible: 400 – 850nm
Oxide on Poly UV: 150 – 10,000A
Oxide on Metal Visible: 3,000 – 20,000A
Oxide on Metal UV: 500 – 5,000A
Operator Manual and Documentation.
NANOMETRICS NanoSpec AFT 4000 ist eine fortschrittliche Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung, entwickelt, um qualitativ hochwertige automatisierte Tests für Halbleiterbauelemente zur Verfügung zu stellen. Dieses System nutzt automatisierte fokussierte Ionenstrahltechnologien (FIB), um sowohl bildgebende als auch analytische Aufgaben auszuführen. Dies bietet ein wirksames Mittel zur Messung und Analyse der physikalischen Eigenschaften von Masken und Wafern, von Topographie und Zusammensetzung bis hin zu Interkonnektivität und lithographischen Eigenschaften. NANOMETRIE NANOSPEC/AFT 4000 besteht aus drei Hauptabschnitten. Die erste ist die Inspektionseinheit, die einen hochauflösenden Siemens MAGNA 3-Achsen-Detektor und eine leistungsstarke Mikroskopfähigkeit enthält. Dies ermöglicht es der Maschine, die kleinsten Funktionen unter Vergrößerung genau zu erkennen und aufzulösen. Die zweite ist die FIB-Quelle, die ein Dual-Ionen-Quell-Tool verwendet. Dies liefert kontrollierte Ionendosen für genaue Bildgebung und Analyse. Schließlich verfügt das Asset über eine integrierte Analyse- und Überprüfungsschnittstelle. Auf diese Weise können Anwender die Ergebnisse jedes Tests einfach überwachen und bewerten. NanoSpec AFT 4000 hat mehrere Funktionen, die es einzigartig machen. Erstens hat es eine hohe Durchsatzstufe, so dass mehrere Masken- und Waferbleche gleichzeitig mit einem einzigen Durchgang getestet werden können. Dies beschleunigt den Prozess erheblich und kann die Wendezeit erheblich reduzieren. Darüber hinaus ist das Modell sehr genau und wiederholbar, so dass Benutzer zuverlässige Ergebnisse jedes Mal. Die Ausrüstung hat auch eingebaute Sicherheitsfunktionen. Dazu gehören ein Vakuumsystem, das Verunreinigungen verhindert, und ein antistatischer Mechanismus zur Verringerung des Risikos eines elektrischen Ladungsaufbaus. Darüber hinaus ist das Gerät in der Lage, sowohl für die Topographie als auch für die Zusammensetzung gleichzeitig zu messen und liefert umfassende Ergebnisse für eine optimierte Effizienz. NANOSPEC/AFT 4000 ist eine vielseitige und hochgradig anpassbare Maschine. Als solche kann es für mehrere Anwendungen konfiguriert werden, einschließlich Bildgebung, Elektrochemie, Abscheidung und Masken-Wafer-Präparation. Es ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Branchen konzipiert, von integrierten Schaltungen bis hin zu Leiterplatten. Es ist auch in der Lage, seine Genauigkeit und Ergebnisse auch in Hochtemperatur- und Feuchtigkeitsumgebungen beizubehalten, so dass es ideal für verschiedene Produktionsumgebungen ist.
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