Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 4150 #9057372 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec AFT 4150 ist eine anspruchsvolle Masken- und Waferinspektionsanlage. Das System wurde entwickelt, um qualitativ hochwertige Bildgebung mit Nanometergenauigkeit für Halbleitereigenschaften zu liefern. Die Innovationen des Geräts ermöglichen eine Submikron-Auflösung für kleine und große Funktionen auf verschiedenen Masken- und Wafertypen. Der AFT 4150 verwendet die patentierte AutoFocus-Technologie AFT, die die Auflösung und Wiederholbarkeit der Maschine deutlich verbessert. Die automatische Steuerung des Objektivs sorgt dafür, dass auch dünnere Wafer während des gesamten Scans perfekt fokussiert bleiben. Dies ermöglicht eine hochauflösende Abbildung mit weniger Zykluszeit. Die AFT 4150 zeichnet sich durch erweiterte Lithographie-Bildgebungskompetenz von NANOMETRICS aus und bietet Perfect Scan Technology als mehrstufiges Scanwerkzeug. Perfect Scan Technology verwendet einen präzisen mehrstufigen Scan-Algorithmus, um Funktionen mit der höchsten Auflösung - bis zu 1,5 nm - an jedem Bildort zu identifizieren und zu scannen. Der Scan-Algorithmus verwendet patentierte Bildverarbeitungsalgorithmen, um die Funktionen für effizientes und genaues Scannen schnell zu identifizieren. Die fünfachsige XY-Theta-Stufe des AFT 4150 und der Piezo-gesteuerte Scankopf bieten 3D-Bildgebung und Ausrichtungsgenauigkeit unter Mikrometern, um Fehler zu isolieren und Kanten mit Nanometerauflösung zu erkennen. Durch das Objektiv wird ein Luftbild gesammelt. Dieses Bild liefert den genauen Bedarf für die Fehlerlokalisierung und Fehlerüberprüfung. NANOMETRICS NANOSPEC/AFT 4150 's Isolated Nass/Dry Spot Inspektion ebnet den Weg für eine bessere Fehlererkennung mit Identifizierung der genauen Signatur des Defekts, seiner genauen Lage und seiner Morphologie. Verbesserte Bildanalyse und erweiterte Fehlererkennungsfunktionen ermöglichen die Identifizierung auch kleinster Fehler. Die Anlage ist für schnellen Betrieb und geringe Wartung ausgelegt. NANOMETRICS patentierte Image Intensity Modeling-Technologie genau modelliert die Bildintensität, die für die automatische Fehlererkennung und Klassifizierung verwendet wird. Der AFT 4150 kann zur Inspektion einer Vielzahl von Masken- und Wafertypen verwendet werden, darunter MEMS, Silizium und keramische Substrate. Eine breite Palette von gängigen Bildformaten kann direkt vom Modell verwaltet werden, einschließlich BMP, PPM und TIFF. Der AFT 4150 ist hochskalierbar und kann problemlos auf größere Bereiche mit höherer Auflösung aufgewertet werden. Die Ausstattung ist auch für maximalen Bedienkomfort mit höhenverstellbarer Workstation, großem LCD-Display und Soft-Touch-Bedienelementen ausgelegt. NanoSpec AFT 4150 ist das perfekte Werkzeug für die Masken- und Waferinspektion. Die hochentwickelte Bildanalyse und die automatische Fehlererkennung gewährleisten eine qualitativ hochwertige Bildgebung über eine Reihe von Substraten und mit Submikron-Genauigkeit. Das robuste Systemdesign und die intuitive Benutzeroberfläche machen es zu einer idealen Wahl für Produktionslabore und Forschungseinrichtungen.