Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec AFT 6100 #9276360 zu verkaufen

ID: 9276360
Film thickness measurement system Handler: OLYMPUS AL110 Series Auto loader Up to (3) layers Reproducibility: <1Å UV, 2Å (Visible) Measurement time: 0.5 to 3 sec/site Data management: 2D and 3D Mapping, diameter scan Communication kit: SECS II Data export: ASCII Wave length range: 400 to 800 nm 210 to 800 nm Film thickness range: 250Å to 20µm (Visible) 40Å to 20µm (UV and visible) Components: Optics stand Monitor Key board Track ball Joy stick Hardware configuration: Wafer size: 75 mm to 200 mm Optics: 4x, 10x, 15x (UV), 40x Spot size: 50, 20, 18 (UV), 5.5 µm PC Computer with high capacity drives Power supply: 117 ±5% VAC, 50/60 Hz, 5 A.
NANOMETRICS NanoSpec AFT 6100 ist eine Präzisionsmaske und Wafer Inspektion Ausrüstung entwickelt, um eine optimale Produktausbeute durch die Erkennung von Fertigungsfehlern so klein wie ein einzelnes Nanometer zu gewährleisten. Es kann praktisch jedes Musterproblem erkennen, einschließlich Fehlstellungen, fehlende Prozessabdeckung, Ätzprozessfehler, Waferrisse, Fehlausrichtung von Funktionen und andere Anomalien. NanoSpec AFT 6100 arbeitet mit ultrahochauflösenden Bildern von Masken- und Wafermustern sowie Fehlerkarten. Dies wird dann verwendet, um Funktionen auf Nanometerebene zu analysieren und detaillierte Erkenntnisse über Fehlermuster, Standort und Größe zu liefern. Es unterstützt auch bei der Messung der Genauigkeit, Platzierung und Ausrichtungsgenauigkeit der Photomasken und der Musterintegrität. Die AFT 6100 verfügt über eine hochauflösende Kamera mit bis zu 50 Megapixel Auflösung und ein patentiertes digitales Bilderfassungssystem, das die Erkennung sehr kleiner Defekte ermöglicht. Die Softwarearchitektur des Geräts umfasst eine leistungsstarke Bildaufnahme- und Fehlererkennungs-Engine, flexible Datenanalyse- und Vergleichswerkzeuge sowie umfangreiche Reporting-Funktionen. Die Maschine verfügt über eine Zoomfähigkeit bis zu 332X, so dass ein hohes Maß an Vergrößerungen verwendet werden, um lokalisierte Fehler zu sehen. Es ist mit transparenten Chuckers ausgestattet, die verwendet werden, um die Ebenheit und Platzierungsgenauigkeit eines Wafers oder einer Maske zu erzwingen. NANOMETRICS NanoSpec AFT 6100 verfügt auch über ein automatisiertes optisches Ausrichtwerkzeug, das eine Fotomaske schnell mit der Waferschablone ausrichten kann und die Inspektionszeit reduziert. NanoSpec AFT 6100 bietet eine hochflexible und zuverlässige Prüfanlage mit hoher Genauigkeit und Präzision. Die intuitive grafische Benutzeroberfläche ermöglicht es Benutzern, Fehlerinformationen schnell zu finden und zu verstehen. Das Modell kann für Produktions-, Qualifizierungs- und Prozessentwicklungsarbeiten auf vielen verschiedenen Ebenen eingesetzt werden, von der einzelnen Matrize bis zur Ausrüstung. Die AFT 6100 ist einfach zu bedienen und bietet eine Vielzahl von Optionen für die Anpassung an spezifische Anforderungen. Es ist ein wesentliches Werkzeug für jeden Wafer Herstellungsprozess, die extreme Präzision und Detail in Musterung und Inspektion Fähigkeiten erfordert.
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