Gebraucht NANOMETRICS Nanospec ATF210 #9170904 zu verkaufen

NANOMETRICS Nanospec ATF210 ist ein Masken- und Wafer-Inspektionssystem der nächsten Generation, das speziell für die Hochleistungs-Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Konkret baut die ATF210 auf einem Rasterelektronenmikroskop (SEM) auf, das eine sehr detaillierte Bildgebung ermöglicht. Diese Information gibt Halbleiterherstellern die Daten, die erforderlich sind, um Herstellungsprobleme oder prozessbezogene Fehler während des Herstellungsprozesses zu ermitteln. Das ATF210 ist mit einer einzigartigen variablen Druckstufe ausgestattet, die die Fähigkeit hat, den Scan-zu-Wafer-Abstand zu verringern und so eine minimale Elektronenstrahlverzerrung zu ermöglichen. Diese variable Druckstufentechnologie ist in anderen Nicht-NANOMETRIE-Masken- und Wafer-Inspektionssystemen nicht enthalten. Die spezialisierte variable Druckstufe bietet auch die höchstmögliche Bildklarheit und Größengenauigkeit. Nanospec ATF210 ist in der Lage, eine breite Palette von bildgebenden Techniken, die eine genaue und detaillierte Ansicht der Layout-Muster, Mikromasken und Photomasken ermöglichen. Darüber hinaus ist die ATF210 in der Lage, zwischen verschiedenen Materialschichten innerhalb von Waferstapeln zu unterscheiden; Diese unschätzbare Fähigkeit unterstützt die Entwicklung und Optimierung von Halbleiterbauelementschichten bei der Herstellung. NANOMETRICS Nanospec ATF210 verfügt auch über die branchenweit höchste Auflösung Bildgebung. Die vom SEM unterstützten hohen Vergrößerungseinstellungen ermöglichen es dem ATF210, Bilder mit beispiellosen Detailstufen zu erfassen. Durch die erhöhte Auflösung der Bilder können die feinsten Merkmale der Probe erfasst werden, ohne die Struktur der Probe selbst zu verzerren. Nanospec ATF210 ist so benutzerfreundlich wie möglich konzipiert. Es verfügt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, die es dem Benutzer ermöglicht, sich schnell mit den Systemfunktionen und -funktionen vertraut zu machen. Darüber hinaus ist das ATF210 mit einer Autofokus-Funktion ausgestattet, die dazu beiträgt, den Zeitaufwand für die Einrichtung und Vorbereitung des Mikroskops zu reduzieren. NANOMETRICS Nanospec ATF210 erfüllt aufgrund seiner Robustheit und Geschwindigkeit auch hohe Serienanforderungen. Insgesamt ist Nanospec ATF210 ein ausgezeichnetes Masken- und Wafer-Inspektionssystem für jede Halbleiterherstellungsumgebung. Der robuste Funktionsumfang und die optimierten Scanfunktionen wurden entwickelt, um eine zuverlässige und genaue Abbildung der komplexesten Layoutmuster, Mikromasken und Photomasken zu ermöglichen. Darüber hinaus verfügt NANOMETRICS Nanospec ATF210 über eine intuitive Benutzeroberfläche, die es benutzerfreundlich und mit der höchsten Auflösung Imaging-Funktionen geben das System die Vielseitigkeit benötigt, um einen optimalen Herstellungsprozess zu gewährleisten.