Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec II #293766064 zu verkaufen

NANOMETRIE NanoSpec II ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die von NANOMETRICS entwickelt wurde, um Fehler bis zu 0,1 µm genau zu erkennen. NanoSpec II wurde entwickelt, um die hochwertigste Bildgebung auf dem Markt mit einfacher Integration in komplexe Halbleiter-Workflows zu liefern. Dieses neue System verfügt über hochauflösende Bildgebung mit bis zu 128-facher Vergrößerung, die eine optimale Fehleranalyse ermöglicht. Seine Pfadaufteilungsfunktionalität nutzt mehrere Sensoren, um eine einzelne Matrize zu inspizieren, wodurch die Inspektionszeit reduziert und der Gesamtdurchsatz erhöht wird. Darüber hinaus kompensiert die einzigartige ASMI-Technologie (Adaptive Sub-Pixel Motion Interpolation) die Verformung von Proben und gewährleistet eine konstant genaue Fehlererkennung. Darüber hinaus bietet NANOMETRICS NanoSpec II ein breites Sichtfeld und umfassende Domänenmessungen mit True Overlay zur kritischen Overlay-Fehleranalyse. Die Einheit erfasst alle verfügbaren Lichtdaten für maximale Bildnachahmung, einschließlich Dunkelfeld, Hellfeld und Polarisation. NanoSpec II ist auch mit einer ganzen Reihe von automatisierten Fehlerklassifizierungsalgorithmen ausgestattet, um potenzielle Fehlerstandorte effizient zu sortieren. Es werden weniger falsch positive Fehlerstandorte gemeldet, wodurch die Notwendigkeit einer manuellen Überprüfung von Glyphenbildern zur Inspektion verringert wird. Darüber hinaus stellt die Farbverbesserungstechnologie Fehlerbilder in ihre wahren Farben dar, um die Klassifizierungsgenauigkeit zu erhöhen. Diese zum Patent angemeldete Maschine, die in NANOMETRICS Kalibrierplattenform integriert ist, bietet eine einfache Installation und eine ausgezeichnete Bildgleichmäßigkeit über verschiedene Feldgrößen, um die Testkosten zu reduzieren. Die einfach zu bedienende Softwareplattform vereinfacht die Werkzeugkonfiguration, bietet automatisierte Werkzeug- und Musterprüfungen, Bilderfassung und Fehlerüberprüfung und verbessert die Effizienz des gesamten Masken- und Waferinspektionsprozesses. NANOMETRICS NanoSpec II ist eine ideale Lösung für Hersteller, die verbesserte Wafer-Defekt-Empfindlichkeit, hohe Produktivität und entworfen für diejenigen, die eine intuitive, einfach zu bedienende Inspektion Asset benötigen. Seine hochpräzisen bildgebenden Funktionen sind die perfekte Wahl für Hersteller, die die Workflow-Geschwindigkeit und -Genauigkeit verbessern möchten.