Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec II #9265792 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec II ist eine hochmoderne Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die hilft, die Produktivität zu steigern und die Kosten für die Herstellung und Herstellung von Wafern zu senken. Dieses System verwendet ein modernes optisches Mikroskop, präzise motorisierte Stufen und eine ausgeklügelte Software, mit der Bediener Fehler sowohl in Photomasken als auch in Wafern überprüfen und identifizieren können. NanoSpec II verwendet eine leistungsstarke optische Zwei-Pässe-Einheit, die hochauflösende Bilder bereitstellt. Es kombiniert High Numerical Aperture (NA) -Objektive und eine ausgeklügelte Bildaufnahmesoftware, um die Eigenschaften von Photomasken und Wafern zu erfassen und zu analysieren. Das Design der optischen Objektive und Öffnungen hat einen optimalen Blickwinkel für eine breite Palette von Düsengrößen und zahlreichen topographischen Bedingungen. Eine breite Palette von Objektiven mit hohem NA, von 50x bis 100x, ist auch verfügbar. Neben den optischen Komponenten verfügt NANOMETRICS NanoSpec II auch über eine hochpräzise motorisierte x-y-Stufe. Dadurch kann der Bediener die Probe einfach und schnell bewegen, so dass der gesamte Wafer schnell inspiziert werden kann. Die starre Struktur der Stufen sorgt auch für eine reibungslose und stabile Bewegung, auch während langer Betriebsstunden. NanoSpec II ist zudem sehr intuitiv und benutzerfreundlich konzipiert und enthält eine Vielzahl von Funktionen zur Vereinfachung der Bedienung. Es gibt eine LED-Anzeige, die Informationen wie die aktuelle Vergrößerung und Belichtungszeit deutlich anzeigt, sowie Tasten, mit denen der Benutzer die Testparameter einrichten kann. Die Software ermöglicht es Benutzern auch, Inspektionsergebnisse und Ergebnisanalysen zu speichern und eine genauere Beurteilung von Fehlern zu ermöglichen. Darüber hinaus verfügt diese Maschine auch über automatisierte Wafer-Qualitätskontrollfunktionen, die helfen, Fehler oder Verschmutzungen auf den Wafern schnell zu erkennen. Dieses automatisierte Fehlererkennungswerkzeug kann sowohl Hoch- als auch Niederspannungsanomalien, Partikelfehler, Submikrondefekte und Rückstände erkennen. Dies macht das Gut extrem effektiv bei der Suche nach der Quelle von Produktionsfehlern schneller und genauer als manuelle Inspektion. NANOMETRICS NanoSpec II ist die perfekte Lösung für die schnelle und genaue Inspektion von Photomasken und Wafern. Die leistungsstarke Optik, motorisierte Stufen und benutzerfreundliche Software machen es zu einer idealen Wahl für Produktionsumgebungen, die höchste Genauigkeit und Zuverlässigkeit erfordern.