Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec M-5100UV / M-5100 #9211233 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec M-5100UV/ M-5100 ist eine vielseitige Multisensor-Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die den Anwendern effiziente Ergebnisse mit unschlagbarer Genauigkeit liefert. Es bietet die höchste räumliche Auflösung und die präziseste Funktionsanalyse, die in der Branche verfügbar ist. Das System kombiniert Funktionsmessungen, CD-Messtechnik und rauscharme Bilder zu einem einzigen, benutzerfreundlichen Instrument. NanoSpec M-5100UV/ M-5100 umfasst vier verschiedene laserbasierte Scanner, die hocheffizient und anpassbar für den Einsatz in einer Vielzahl von Masken- und Waferinspektionsanwendungen sind. Diese vier Scanvorrichtungen sind das Nanofocus-Röntgenbild, die Mask-zu-Wafer-Einheit, die Overlay/Flatness-Maschine und das Reticle Defect Tool. Der Nanofocus Röntgenscanner bietet Bilder bis zu 15 nm mit seinem hochauflösenden Bildverarbeitungsmaterial. Dieses Modell ermöglicht die automatische Erkennung und Anpassung von Funktionen, so dass es sehr effizient bei der Identifizierung und Charakterisierung von Merkmalen ist. Die Mask-zu-Wafer-Ausrüstung ist in der Lage, das CD/SD-Profil jeder Maske und jedes Wafers schnell zu vergleichen und dann die Unterschiede zwischen den beiden genau auszuwerten. Es kann auch Masken- und Wafer-Inspektionen in Echtzeit durchführen. Dies ermöglicht schnelle und effiziente Masken- und Wafer-Vergleiche. Das Overlay/Flatness System wurde entwickelt, um die Inspektionen von Masken und Wafern mit Ebenheit und Überlagerungsgenauigkeit zu beschleunigen. Die Einheit misst die Unterschiede zwischen den beiden für verschiedene Merkmale und Größen. Dadurch entfallen mühsame manuelle Messungen. Die Reticle Defect Machine besteht aus einem Mustererkennungsalgorithmus, der bei der Erkennung und Identifizierung von Fehlern an den Retikeln sehr genau ist. Es kann auch autosave die erkannten Fehler, so dass Benutzer Zeit und Ressourcen sparen bei der Überprüfung von Retikeln. Insgesamt ist NANOMETRICS NanoSpec M-5100UV/ M-5100 ein hocheffizientes und genaues Tool, das Anwendern hilft, Funktionen auf Masken und Wafern schnell und präzise zu erkennen und zu charakterisieren. Die vier Scangeräte bieten die höchste räumliche Auflösung mit präziser Funktionsanalyse und sind damit die ideale Wahl für eine effiziente Masken- und Waferinspektion.