Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec M-6100UV #9241513 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec M-6100UV
ID: 9241513
Film thickness measurement system.
NANOMETRICS NanoSpec M-6100UV ist eine hochmoderne automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage. Es wurde entwickelt, um höchste Leistung und Funktionalität für die anspruchsvollsten Masken- und Waferinspektionsanwendungen zu bieten. Das M-6100UV bietet eine überlegene optische Auflösung für die präziseste Masken- und Waferanalyse mit seinen optimierten Kontrast- und Farbbildfunktionen. Der vom System verwendete Algorithmus sorgt für genaue Ergebnisse, indem er detaillierte Informationen über Fehler- und Partikelstandorte, -größen und -dichten liefert. Um eine noch bessere Leistung zu erzielen, nutzt die M-6100UV auch die Null-Toleranz-Kantenerkennung zur genauen Erkennung kleiner Defekte. Das Gerät ist mit einer 6 "optomechanischen Ausrichtmaschine, einem Sichtfeld mit einer Kapazität von bis zu 7,5 m und einem Spannungsbereich von 0-15kV ausgestattet. Ein automatisiertes Wafer-Ladewerkzeug bietet höchsten Komfort und Effizienz. Es ist auch in der Lage, schnelle Rampenbedingungen zu erkennen und kann eine breite Palette von Probenverarbeitungsgeschwindigkeiten verarbeiten. Das Asset bietet auch eine Vielzahl von erweiterten Visualisierungs- und Analysetools, die erweiterte Dateninterpretations- und Analysefunktionen bieten, um die genauesten Ergebnisse aus dem Modell zu erhalten. Das automatisierte Softwarepaket des M-6100UV ist leistungsstark und äußerst zuverlässig, mit einer erweiterten grafischen Benutzeroberfläche, die den Betrieb und die Datenanalyse einfacher denn je macht. Die Ausrüstung kann sowohl maskenlose als auch maskierende Lösungen für die detailliertesten Prüfanforderungen liefern. Das M-6100UV bietet überlegene Bildgebungsleistung und Genauigkeit. Seine fortschrittliche Optik bietet einen hohen Bildkontrast und Klarheit. Das System ist auch mit einer integrierten Laserinspektionseinheit ausgestattet, die zur Ausrichtung und Reinraumerkennung verwendet werden kann. Die Robustheit und Zuverlässigkeit des M-6100UV machen es für den Einsatz in einer Vielzahl von Inspektionsumgebungen geeignet. Von der großvolumigen Fertigung bis zur Laboranalyse können Sie sich auf die M-6100UV verlassen, um Ihre Masken und Wafer schnell und genau zu überprüfen. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen, hoher Auflösung und effizientem Betrieb ist das M-6100UV die ideale Wahl für die Masken- und Waferinspektion.
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