Gebraucht NAPSON NC-3000F #9123347 zu verkaufen

NAPSON NC-3000F ist eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die die Qualität steigern und Kosten bei der Herstellung von Halbleitern senken soll. Das System bietet Vollfeld- und gleichzeitige Erfassung von Masken- und Wafer-Funktionen mit automatischer, präziser optischer Inspektion und Überwachung von Masken- und Wafer-Mustern. Das Gerät verwendet proprietäre fortschrittliche Technologie in Kombination mit modularer Hardwarekonfiguration und Branchenlösungen, die eine verbesserte qualitative und quantitative Leistung ermöglicht. Die Maschine arbeitet mit drei Hauptkomponenten, einem präzisen optischen Bildgeber kombiniert mit einem speziellen Optikpaket und einer umfangreichen Software-Bibliothek für die Datenerfassung. NC-3000F verwendet ein proprietäres Bildgebungswerkzeug mit hohem Dynamikbereich, hohem Signal-Rausch-Verhältnis und energieeffizienter Laseranregung für unübertroffene Auflösung und Dynamikbereich. Die Optikverpackung verfügt über eine doppelte Belichtungsfähigkeit, die eine gleichzeitige Masken- und Waferinspektion ermöglicht. Die umfangreiche Datenbibliothek umfasst vollautomatische und anpassbare Software, die eine umfassende Analyse und anpassbare Berichtsgenerierung ermöglicht. NAPSON NC-3000F verfügt auch über mehrere Inspektionsmodi, einschließlich Automated Mask Inspection (AMI), Mask-to-Wafer Registration (MWR) und optische Flugprüfung (OFT). AMI bietet eine Hochgeschwindigkeitsbewertung von Maskenmustern sowohl von oberseitigen als auch von unterseitigen Mustern und bietet die Wahl der planaren und/oder 3D-Autoprüfung. MWR richtet Masken- und Wafer-Muster automatisch aus, um die Genauigkeit und Qualität zu verbessern. OFT ermöglicht die automatisierte Durchführung mehrerer, zerstörungsfreier, optischer Flugtests an den Probenmustern und liefert dem Anwender zuverlässige und wiederholbare Daten. Das Asset umfasst außerdem eine 4-Achsen-XYZ-Theta-Stufe, die eine hochpräzise Ausrichtung von Masken- und Wafer-Strukturen ermöglicht, die Kosten für die Verifizierung und Korrektur von Maskendaten reduziert und die Ausbeute verbessert. Automatisierte Ausrichtung ermöglicht Wiederholbarkeit, Stabilität, Präzision und Genauigkeit. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine erweiterte Lichtquellen-Interferenzmessung für genaue Leistung und Charakterisierung. Die integrierte High-Speed Pattern Matching (HSSPM) -Ausrüstung bietet Mustererkennungsgenauigkeit und Wiederholbarkeit. NC-3000F ist ein effektives und vielseitiges Werkzeug, das eine umfassende Palette von Bildgebungs-, Registrierungs- und Inspektionsmöglichkeiten bietet. Es soll Kosten sparen und die Qualität in Halbleiterherstellungsprozessen erhöhen. Dieses System eignet sich für ein breites Anwendungsspektrum sowohl im Labor als auch in der Industrie und ist mit höchster Sicherheit und Zuverlässigkeit ausgelegt.