Gebraucht NAPSON PN-50∝ #9153438 zu verkaufen

NAPSON PN- 50∝ ist eine produktionsorientierte Masken- und Waferinspektionsanlage der nächsten Generation. Das System bietet eine umfassende Palette von Funktionen, einschließlich qualitativ hochwertiger Mehrfeld-Wafer-Inspektion, Bilderfassung und -analyse, Fehlerabbildung und -wertung, Ausrichtung, Overlay und Druckbarkeitsbewertung. Das Gerät wurde entwickelt, um eine breite Palette von Produktionsanwendungen zu unterstützen, mit einem Schwerpunkt auf hochpräzise Inspektion, Fehlererkennung und Fehlerüberlagerung Beurteilung. Die Maschine ist mit einem hochmodernen Kamerawerkzeug ausgestattet, das über einen Vollbild-RGB-Sensor verfügt, der Bilder mit einer Pixelauflösung von bis zu 2.488 x 1.764 mit 50 mm Tiefenschärfe aufnehmen kann. Darüber hinaus bietet das Asset eine automatisierte Stufe, die einen gesamten Wafer in weniger als einer Minute scannen kann. Ausgestattet mit einer hochauflösenden 10-Megapixel-Farbkamera bietet PN- 50∝ den Betreibern die Möglichkeit, Bilder von Fehlern wie Partikelverunreinigungen oder Fleckendefekte auf dem Wafer zuverlässig zu erfassen und zu analysieren. Darüber hinaus ermöglicht die fortschrittliche optische Konfiguration des Modells dem Bediener, großflächige Overlays mit Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu erzeugen. Das Gerät enthält auch eine Reihe von Mustervergleichssoftware-Tools, die tatsächliche Maskenfunktionen mit erwarteten Mustern vergleichen können. Dadurch können Bereiche mit potenziellen Ausrichtungsproblemen, falschen Kontakten und anderen potenziellen Maskendesign-Problemen gefunden werden. Darüber hinaus kann das System zur automatisierten Qualifizierung von Lithographieprozessen, Bewertung von Prozessvariationen und Schulung neuer Bediener zur Verbesserung des Produktdesigns und des Herstellungsprozesses eingesetzt werden. Darüber hinaus verfügt NAPSON PN- 50∝ auch über die neueste optische Ausricht- und Overlay-Technologie (OAO) mit einem 10 mm breiten Sichtfeld. Diese OAO-Technologie kann verwendet werden, um verschiedene Arten von Defekten wie Partikel, Staub und andere Probleme genau zu identifizieren und mögliche Lösungen bereitzustellen. Mit OAO und 50 mm Tiefenschärfe kann das Gerät Maskenfehler, Linien-Kantenrauhigkeiten, Musterungleichmäßigkeiten und sogar kleinere Maßfehler erkennen. PN- 50∝ Masken und Wafer Inspektionsmaschine ist eine ideale Wahl für Hersteller, die Qualitätssicherung, effiziente Produktion und Genauigkeit suchen. Dieses Tool stellt die Werkzeuge bereit, um Qualitätskontrollen, Fehlererkennung und Fehlerüberlagerung zu gewährleisten. Mit seinen hochmodernen optischen Ausrichtungs- und Overlay-Fähigkeiten ist NAPSON PN- 50∝ eine zuverlässige und leistungsstarke Lösung für die produktionsorientierte Masken- und Waferinspektion.