Gebraucht NAPSON RT-70 #9241798 zu verkaufen

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ID: 9241798
Resistivity measurement system.
NAPSON RT-70 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein fortschrittliches bildgebendes System, das entwickelt wurde, um Fehler in Lithographiemasken und Wafern genau zu erkennen. Das Gerät nutzt hochauflösende Bildgebung, zusammen mit fortschrittlichen Mustererkennungsalgorithmen, um verschiedene Arten von Fehlern genau zu identifizieren und zu klassifizieren. RT-70 Maschine ist ideal für den Einsatz in Industrie, Wissenschaft und Labor. Es verwendet einen UV-Laser, um die Maske oder den Wafer zu scannen und 3D-Bilder von einzelnen Masken oder Wafern zu erzeugen. Eine Digitalkamera erfasst diese Bilder zusammen mit einer Beschreibung der Intensität und räumlichen Auflösung der Bilder. Das Werkzeug kann sowohl große als auch kleine Defekte erkennen, einschließlich Partikel, Pinholes und körnige Defekte. Darüber hinaus können Lithographiefehler wie Steigung, Kantenplatzierungen, Linienbreiten, Leerzeichen und Linienprofile identifiziert werden. Es kann auch Variationen in der Belichtung oder im Fokus des Bildes sowie Verunreinigungen und Verzerrungen erkennen. All diese Funktionen machen NAPSON RT-70 zu einem leistungsstarken Werkzeug zur Inspektion von Masken und Wafern. Die Benutzeroberfläche ist benutzerfreundlich und ermöglicht eine einfache Einrichtung und Verwendung des Elements. Parameter wie Auflösung, Zoom und Kontrastverhältnis können in wenigen Sekunden angepasst werden. Darüber hinaus verfügt RT-70 über eine Vielzahl fortschrittlicher Bildgebungswerkzeuge wie Farbzuordnung, Koordinatenübertragung, Ausrichtung und Mustererkennung. Dies erleichtert die Identifizierung kleiner Defekte, wie Partikel und Nadelöcher. Das Modell ist auch mit einer Vielzahl von CAD-und Lithographie-Software kompatibel, so dass die nahtlose Integration von NAPSON RT-70. RT-70 Mask & Wafer Inspection Equipment ist eine All-in-One-Lösung für die Masken- und Wafer-Inspektion. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Defekten sowohl in Lithographiemasken als auch in Wafern genau zu erkennen, und seine fortschrittlichen Bildgebungswerkzeuge machen es zu einem leistungsstarken Werkzeug, um auch die kleinsten Fehler zu identifizieren. Zudem sorgt die Kompatibilität mit verschiedenen CAD und Lithographiesoftware für eine erfolgreiche Integration in bestehende Anwendungen.
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