Gebraucht NEONTECH NTM-60A #9144069 zu verkaufen

NEONTECH NTM-60A ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage für die Halbleiterindustrie. Es ist in der Lage, sowohl die Dünnschichtschichten von Masken als auch die geätzten Muster von Wafern mit hoher Genauigkeit und hoher Geschwindigkeit zu überprüfen und zu analysieren. Es verfügt über ein 10x optisches Abbildungssystem mit einem Spektralbereich von 220-1700nm und 75 µm Pixelgröße und einer empfindlichen Point Spread Function (PSF) -Einheit zur Unterscheidung zwischen Materialien und Objekten. Die Hochgeschwindigkeitsprüfung der Maschine wird durch ihr weites Sichtfeld von 170 mm und ihre Zoomfähigkeit ermöglicht. Seine Bildraten bei voller Auflösung reichen von 50 fps bis 100 fps je nach Sichtbereich. Das Tool verwendet einen fortschrittlichen Algorithmus für die automatische Fehlererkennung und -berichterstattung und eine intelligente Bildschirmanzeige, die es ermöglicht, jeden Bildrahmen einzeln anzuzeigen, Kommentare und Anmerkungen hinzuzufügen oder Einstellungen anzupassen. NTM-60A misst eine Vielzahl von Parametern sowohl im Masken- als auch im Waferinspektionsmodus. Zu diesen Parametern gehören mittlerer Kontrast, Spitzenkontrast, Standardabweichung, Rauschen, Rausch-/Signalverhältnis und Weichzeichner. Es kann auch flächenbezogene Parameter wie Kanten-zu-Kanten-Ebenheit, Kantenradius, Schritthöhe und Dichte und Dicke messen. Die interaktive Benutzeroberfläche des Assets erleichtert die Einrichtung und Bedienung. Es verfügt über automatische Bilderfassung und Auswahlfähigkeit, die die besten Bilder für die Analyse auswählt. Die Analyseparameter können anhand sich ändernder Anforderungen überarbeitet werden. NEONTECH NTM-60A verfügt auch über eine Vielzahl von automatisierten Tools, die bei der Analyse von Hot-Spots, Ausrichtungsfehlern und Maskenqualität helfen. Diese Werkzeuge ermöglichen eine präzise Anpassung verschiedener Parameter und reduzieren die für die Analyse benötigte Zeit. NTM-60A eignet sich hervorragend auch für die Maskenreparatur und Fehleranalyse. Der Mehrzonenvergleich und die Trendanalyse können Probleme erkennen, die von Linienbreitenvariationen bis hin zu Photoresist über Ätzen oder fehlerhafter Photomasken-Ausrichtung reichen. Es ermöglicht auch eine schnelle Visualisierung und ermöglicht es, Bilder nebeneinander zu vergleichen, um Masken im Prozess zu überprüfen. NEONTECH NTM-60A wurde entwickelt, um die Inspektion von Masken und Wafern schnell und einfach zu machen und liefert zuverlässige und genaue Ergebnisse in einer Reihe von Halbleiteranwendungen. Es erhöht die Produktionseffizienz und liefert und beschleunigt den Prozess der Suche und Behebung von Maskenfehlern und -fehlern.