Gebraucht NIKON 2A #77230 zu verkaufen
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ID: 77230
Wafergröße: 4", 5", 6"
Optistation, 4", 5" and 6", BD Plan 10x, 20x and 40x objectives.
NIKON 2A ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die vom NIKON-Team für optische Mikroelektronik entwickelt wurde. Es wurde entwickelt, um die genaueste Inspektion der feinsten zellulären Schaltungsmuster auf Masken, Wafern und freistehenden Folien durchzuführen. Der Kern von 2A ist ein fortschrittliches optisches Design, das zwei Lasersysteme integriert. Das erste Lasersystem ist eine Koehler Substratvarianz, entworfen, um subtile Minutenmustervariationen in Masken, Wafern und freistehenden Folien aufzunehmen. Die zweite Lasereinheit verwendet ein ultrahohes Präzisionsobjektiv, um latente Defekte wie kleine Körner und Dunkelfeldmuster genau zu erfassen und eine Auflösung von sub-1 μ m zu erzielen. Durch die Kombination dieser beiden Systeme mit einer vollautomatischen Bildanalysemaschine bietet NIKON 2A eine umfassende Inspektion komplexer Masken, Wafer und freistehender Folien. Das fortschrittliche optische Design und das automatisierte Bildgebungswerkzeug verfügen über eine kontrastreiche Auflösung und ein größeres Sichtfeld. Dies ermöglicht eine schnelle und genaue Analyse von Submikromustern und Defekten auf Masken und Substraten. Darüber hinaus umfasst 2A eine optionale Scananlage, mit der die dynamische Transformation von Substraten in verschiedenen Stufen des Herstellungsprozesses überprüft und analysiert werden kann. Das bildgebende Modell von NIKON 2A ist in der Lage, gleichzeitige 2D- und 3D-Informationen bereitzustellen und sowohl Oberflächen- als auch vergrabene Defekte zu erkennen. Es ist in der Lage, Fehlerformen in jedem Winkel zu erkennen und automatisch auf eine bestimmte Größe zu kalibrieren. Schließlich bietet die Ausrüstung detaillierte Fehleranalysen, einschließlich Größe, Form und Qualität. Das robuste Hardware-Design in 2A ist mit maximaler Zuverlässigkeit und einfacher Wartung ausgelegt. Seine fortschrittliche Automatisierung ermöglicht eine einfache und intuitive Einrichtung, während seine intuitive Benutzeroberfläche eine einfache Bedienung und Steuerung ermöglicht. Kurz gesagt, NIKON 2A ist ein zuverlässiges und hochgenaues Masken- und Wafer-Inspektionssystem. Es ist in der Lage, kleine Musterschwankungen genau zu identifizieren und latente Defekte an Masken, Wafern und Stehfolien zu erkennen. 2A bietet leistungsstarke Bildanalyse und Kalibrierung sowie detaillierte Fehleranalyse und intuitive Benutzeroberfläche. Sein robustes Design garantiert maximale Zuverlässigkeit und einfache Wartung.
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