Gebraucht NIKON AMI-3500 #9411436 zu verkaufen

NIKON AMI-3500 ist eine hochentwickelte, leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die eine überlegene Bildgenauigkeit und schnelle Inspektionsgeschwindigkeit erzielt. Dieses System nutzt fortschrittliche und vollautomatische Bildanalyse und -verarbeitung, um Fehler an Masken und Wafern schnell zu identifizieren. AMI-3500 ist mit einem 12-Zoll-Lichtmikroskop und einer CCD-Kamera (Charge Couple Device) ausgestattet, die extrem scharfe, lebensechte Bilder mit ausgezeichneter Genauigkeit aufnimmt. Darüber hinaus verfügt NIKON AMI-3500 über eine Hochgeschwindigkeits-XY-Bühne, die 220mm/s bewegen kann, und einen 8-Zoll-Waferhalter, der beide Halbleiterscheiben mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll und eine 6-Zoll-Maske handhaben kann. AMI-3500 wurde für überlegene Bildgenauigkeit, Leistung und Zuverlässigkeit konzipiert. Es verfügt über hochgenaue Bildanalyse mit proprietären Bildverarbeitungsalgorithmen. Zu den leistungsstarken Software-Algorithmen gehören Bildvorverarbeitungsalgorithmen wie Edge, Binary, Color und Wavelet. Darüber hinaus verfügt NIKON AMI-3500 über einen Schritt-für-Schritt-Workflow-Manager mit automatisiertem anwendergesteuertem Setup, Test und Inspektion. AMI-3500 ist in der Lage, Fehler bei minimaler Benutzerinteraktion automatisch zu erkennen. Es kann eine Vielzahl von Defekten an Masken, Wafern und in Submikrontechniken mit hoher Genauigkeit und schneller Inspektionsgeschwindigkeit erkennen. Es ermöglicht dem Benutzer auch, kleine, subtile Fehler durch automatische Erkennungs- und Ablehnungsoperationen schnell zu identifizieren und zu beheben. NIKON AMI-3500 unterstützt auch die manuelle Überprüfung durch die Bereitstellung erweiterter Bildverarbeitungsoptionen für verschiedene Arten von Masken und Wafern. Dieses Gerät ist voll konform mit SEMI M9, M109 und M3399 Industriestandards. Abschließend ist AMI-3500 eine fortschrittliche, leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine, die entwickelt wurde, um eine überlegene Bildgenauigkeit und schnelle Inspektionsgeschwindigkeit zu erreichen. Es verwendet die innovativsten Bildverarbeitungsalgorithmen und automatisierte anwendergesteuerte Einstellungen, Tests und Inspektionen. Darüber hinaus verfügt es über eine Hochgeschwindigkeits-XY-Bühne, einen 8-Zoll-Waferhalter, ein 12-Zoll-Lichtmikroskop, eine CCD-Kamera und ist voll konform mit SEMI M9, M109 und M3399 Industriestandards. Dieses Tool ist die perfekte Wahl für fortgeschrittene und zuverlässige Masken- und Wafer-Inspektion.