Gebraucht NIKON NRM-3100 #9401531 zu verkaufen

NIKON NRM-3100 ist eine hochpräzise Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die Mängel mit außergewöhnlicher Genauigkeit erkennt. Es verfügt über ein hochempfindliches, hochauflösendes Mini-Lithographiesystem, das in der Lage ist, Fehler auf Nanometerebene zu beheben. Das Gerät verfügt über eine 50nm Auflösung, eine Nano-überbelichtete Detektionsdynamik von 4.500: 1 und eine hohe Durchsatzrate von bis zu 4.500 Wafern pro Stunde. NRM-3100 kann sowohl für die Retikel- als auch für die Wafer-Inspektion verwendet werden, und seine erweiterbare Plattform ermöglicht die Detektion von kleinen und großen Mustern auf demselben Gerät. NIKON NRM-3100 verfügt über eine integrierte Automated Operation Machine (AOS), die den Masken-/Wafer-Inspektionsprozess beschleunigt und den Zeitaufwand für die Fertigstellung minimiert. Es wurde entwickelt, um umfassende Inspektionsergebnisse in Minuten durch den Einsatz einer automatisierten Mustererkennung, Fehlererkennung und -analyse zu liefern. Die hochgenaue, schnelle automatische Messung von Mustern, Werten und Defekten ermöglicht es dem Benutzer, Probleme schnell zu erkennen und zu reparieren. Das fortschrittliche Optik-Tool von NRM-3100 verwendet eine automatische Fokus-Bilderfassung und eine programmierbare motorisierte Stufe, die während des gesamten Inspektionsprozesses eine hervorragende Kontrolle über Genauigkeit und Geschwindigkeit bietet. Das ausgezeichnete Sichtfeld dieses Modells wurde entwickelt, um den Betreibern eine optimierte Erfahrung bei der Bestimmung der Abweichung zwischen den Wafern zu bieten. NIKON NRM-3100 verfügt auch über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI), um die Benutzerinteraktion mit dem Gerät zu optimieren. Diese benutzerfreundliche Oberfläche ermöglicht es dem Bediener, Systemeinstellungen schnell und einfach anzuzeigen und zu ändern, was eine schnelle Durchlaufzeit ermöglicht. Darüber hinaus ist NRM-3100 das einzige Gerät, das mit dem berührungslosen statischen Fehlermessmodul NIKON ausgestattet ist und statische Fehler von Waferkanten genau misst und erfasst. Insgesamt ist NIKON NRM-3100 eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine, die detaillierte Ergebnisse liefern kann. Es ist mit einem High-End-Mini-Lithographie-Tool ausgestattet und bietet eine hochauflösende Inspektion, um die kleinsten Fehler zu erkennen, kombiniert mit Unterstützung für automatisierte Operationen, um die Arbeit schneller zu erledigen. Zusätzlich machen die günstige grafische Benutzerschnittstelle und das statische Defektmaßmodul NRM-3100 die ideale Wahl für die genaue, zuverlässige und rentable Oblateninspektion.