Gebraucht NIKON Optistation 2 #9233005 zu verkaufen

NIKON Optistation 2 ist eine hochmoderne Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für fortschrittliche Halbleitertechnologien. Es verwendet ein fortschrittliches Bildgebungssystem, um eine genaue und detaillierte Analyse von Masken und Wafern bereitzustellen. Optistation 2 ist mit einer innovativen Messtechnik und Bildgebungstechnologie ausgestattet, einschließlich hochauflösender telezentrischer Optik, wodurch Einbauleistungen von bis zu 1,25 μ m exakt gemessen werden können. In Verbindung mit der einzigartigen OIS-Technologie von NIKON sorgt es für hohe Empfindlichkeit bei der Erkennung von Defekten an Masken und Wafern. NIKON Optistation 2 wurde entwickelt, um Hunderte von Bildern pro Sekunde aufnehmen zu können. Dies macht es schneller als jede andere Inspektionseinheit in seiner Klasse und sorgt für einen effizienteren und genaueren Prozess der Analyse. Darüber hinaus ist es mit einer Reihe von ausgeklügelten Algorithmen ausgestattet, die feinere Defekte an Masken und Wafern erkennen sollen. Darüber hinaus ist Optistation 2 für den Einsatz in einer Reihe von Automatisierungssystemen konzipiert, darunter NIKON exklusives FlexAL-Modul, das einen größeren Informationsdurchsatz und eine schnellere Durchlaufzeit für die Analyse ermöglicht. NIKON Optistation 2 ist auch mit automatisierter Fehlerüberprüfungsfunktion konzipiert, um Anwendern bei der manuellen Überprüfung zu helfen. Diese Funktion erstellt umfassende Berichte, die einen umfassenden Überblick über die Ergebnisse bieten und einen effizienteren und genaueren Überprüfungsprozess ermöglichen. Darüber hinaus ermöglicht die intuitive Benutzeroberfläche der Maschine eine einfachere Navigation durch die verschiedenen Funktionen und Einstellungen des Tools. Optistation 2 ist eine ideale Lösung für die Masken- und Waferinspektion. Es bietet eine zuverlässige, hochpräzise Plattform zur effizienten und genauen Erkennung von Defekten. Mit seiner automatisierten Überprüfungsfunktion und ausgeklügelten Algorithmen stellt er sicher, dass Masken und Wafer mit höchster Genauigkeit und Effizienz überprüft werden.