Gebraucht NIKON Optistation 3100 #293587898 zu verkaufen

NIKON Optistation 3100 ist eine führende Kantenmasken- und Waferinspektionsanlage, die es Chipherstellern und Maskenherstellern ermöglicht, Fehler auf der Wafer- und Maskenphase schnell und genau zu erkennen. NIKON OPTISTATION-3100 ist ein leistungsfähiges und vielseitiges System, das die neuesten Fortschritte in der Bildverarbeitungs- und Bildverarbeitungstechnologie nutzt. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Inspektionen durchzuführen, von der optischen und Elektronenstrahl-Bildgebung bis zur automatisierten Testmusterprüfung. Die Software wurde speziell entwickelt, um Tests bereitzustellen, die in allen Phasen der Produktion sehr zuverlässig und genau sind. Optistation 3100 verwendet eine Kombination aus einer digitalen Bildkarte, zwei optischen Abbildungssystemen und zwei Elektronenstrahlsystemen, um Fehler schnell und genau zu erkennen. Das Gerät kann bis zu 1000X vergrößern und Fehler bis zu 0,5 μ m erkennen. Es enthält auch eine leistungsstarke Musteranpassungsmaschine, mit der selbst komplexeste Muster schnell und präzise erkannt werden können. Das Tool ist unglaublich benutzerfreundlich und entworfen, um eine niedrige Lernkurve für Bediener zur Verfügung zu stellen. Das Asset verfügt über eine flexible EDX-Analyse-Suite für vollständige End-of-Line-Tests. Die Software unterstützt eine breite Palette von Bildausgabeformaten wie HTML, JPEG und PSD. OPTISTATION-3100 ist auch in der Lage, Inspektionstests parallel durchzuführen, wodurch mehrere Aufgaben gleichzeitig durchgeführt werden können. Dies kann den Zeitaufwand für Tests erheblich reduzieren und hilft, den Workflow-Prozess zu optimieren. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine leistungsstarke Ausrüstungsberichtsfunktion, mit der die Leistung verfolgt und detaillierte Daten zur Leistung des Systems bereitgestellt werden können. NIKON Optistation 3100 kann auch Berichte in mehreren Formaten für eine Vielzahl von Anwendungen erstellen. Zusammenfassend ist NIKON OPTISTATION-3100 eine leistungsstarke und vielseitige Einheit, die auf die Bedürfnisse von Chipherstellern und Maskenherstellern zugeschnitten ist. Es nutzt die neuesten Fortschritte in der Bildverarbeitungs- und Bildverarbeitungstechnologie, um Fehler im Wafer- und Maskenstadium schnell und genau zu erkennen. Es verfügt über eine benutzerfreundliche Oberfläche, eine flexible EDX-Analyse-Suite und die Möglichkeit, Berichte in mehreren Formaten zu erstellen.