Gebraucht NIKON Optistation II #9307809 zu verkaufen

NIKON Optistation II ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die lithographische Produktion. Mit seiner hochmodernen Beleuchtungs- und Bildgebungstechnik ermöglicht es zuverlässige, hochpräzise Messungen mit extrem geringen Geräuschpegeln für Anwendungen in der mikroelektronischen Industrie. Das System verfügt über ein hellfelddurchlässiges Beleuchtungsmodul, das als Lichtquelle für bildgebende Anwendungen fungiert. Es bietet einen hervorragenden Kontrast für klare Abbildungen und störungsfreie Signale zwischen Detektor und Muster. Seine robuste, stabile Struktur ist so konzipiert, dass sie über einen weiten Feldbereich von mehr als 200 µm gleichmäßig bleibt. Die Inspektionseinheit umfasst auch eine einfach zu bedienende maXelerator-Bühne, die eine schnelle, reibungslose Bewegung und eine präzise, wiederholbare Positionierung ermöglicht. Es ist in der Lage, große Bereiche, wie einen vollen Wafer in einer einzigen Bewegung zu scannen, während genaue Berechnung Zwischenpunkte auf dem Weg. Optistation II bietet eine Reihe fortschrittlicher quantitativer Bildanalysefunktionen zur genauen und wiederholbaren Fehlererkennung. Es kann eine Vielzahl von Parametern wie Linienbreite, Kantenposition, Linienrauheit und Fehlergröße für genaue Messung und Diagnose erkennen. Die Maschine basiert auf einer One-Shot-Belichtung, Schnellansicht-Ausrichtungstechnik, die es dem Benutzer ermöglicht, Abwehrmuster auf Wafern schnell zu identifizieren, auszurichten und zu messen. Es ist mit einer integrierten Messtechnik ausgestattet, die mit Hochgeschwindigkeits-Scannen nahtlos unter Softwarekontrolle kombiniert wird, um den Durchsatz und die Genauigkeit zu optimieren. Insgesamt bietet NIKON Optistation II ein leistungsstarkes und zuverlässiges Masken- und Wafer-Inspektionswerkzeug, das Musterbilder mit hoher Präzision effizient inspizieren kann. Es ist auch in der Lage, schnell Abwehrmuster auf Wafern unter Software-Kontrolle zu suchen und genau zu messen. Mit seinem robusten Design und der fortschrittlichen bildgebenden Technologie ist es eine ideale Lösung für die lithographische Produktion.