Gebraucht NIKON Optistation III #293629231 zu verkaufen

NIKON Optistation III ist ein Stück High-End-Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung für den Einsatz in der Halbleiterindustrie konzipiert. Es bietet eine umfassende Palette von Mess- und Analysefunktionen für die Masken- und Waferinspektion und ist in der Lage, mit bis zu 250 Wafern pro Stunde zu arbeiten. Es verfügt über eine vollautomatische Ausrüstung mit einem Hochgeschwindigkeits-Scanner, Bildprozessor, Bildanalysator und einer hochpräzisen Messtechnik-Station. Dieses System bietet eine komplette Prozesssteuerung einschließlich einer hochgenauen Overlay- und Wafermessmaschine, einer vollautomatischen Fehleranalyse und Berichtssystemen. NIKON OPTISTATION-III basiert auf einem fortschrittlichen optischen Bildgebungstool mit einem hochauflösenden CCD-Sensor und Zoomobjektiv. Der CCD-Sensor ist in der Lage, mikroskopische Bilder einer Maske oder eines Wafers in weniger als einer Sekunde zu erfassen. Das Zoomobjektivmodell ermöglicht eine genaue Analyse von Merkmalen bis zu 5 μ m, wodurch sehr kleine Defekte erkannt werden können. Optistation III enthält auch Software, die die automatische Analyse und Klassifizierung von Masken- und Waferbildern ermöglicht. OPTISTATION-III bietet zudem ein hochgenaues Overlay- und Wafermessgerät. Dieses System kann Muster auf der Maske und dem Wafer nach der Inspektion genau messen, wodurch Positions- und Größenänderungen erkannt werden können. Darüber hinaus ist das Gerät mit fortschrittlicher Messtechnik-Software ausgestattet, die eine genaue 3D-Analyse der gemessenen Muster ermöglicht. Darüber hinaus bietet die Software umfassende Reporting-Tools zur Analyse und zum Vergleich von Inspektionsergebnissen. NIKON Optistation III bietet zudem eine automatisierte Fehleranalysefunktion. Diese Funktion überprüft automatisch Masken und Wafer auf verschiedene Arten von Defekten und kann dann detaillierte Informationen darüber liefern. Die Maschine umfasst auch eine Vielzahl von manuellen Analysefunktionen, einschließlich manueller Messungen, manueller Fehlerklassifizierung und kritischer Fehlerüberprüfung. Abschließend bietet NIKON OPTISTATION-III eine umfassende Palette an Möglichkeiten für Anwender in der Halbleiterindustrie. Es ermöglicht eine schnelle und genaue Inspektion von Masken und Wafern mit detaillierter Analyse und Berichterstattung. Das Tool umfasst auch eine hochgenaue Overlay- und Wafermessanlage, automatisierte Fehleranalyse und manuelle Analysefunktionen. All diese Merkmale sorgen für eine qualitativ hochwertige Inspektion und machen Optistation III zu einer idealen Wahl für die Masken- und Waferinspektion.