Gebraucht NIKON Optistation VII #293634722 zu verkaufen

NIKON Optistation VII ist eine hochmoderne automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage. Es wurde entwickelt, um Fehler auf einer Vielzahl von Substraten und Oberflächen, einschließlich Transistoren, Speicher und anderen Halbleiterbauelementen, genau und schnell zu erkennen. Es bietet ein umfassendes System zur Inspektion, einschließlich direkter Belichtung und hochauflösender Bildgebungsfunktionen. Das Gerät ist mit einer vielseitigen mehrachsigen hochpräzisen Nanometerstufenmaschine, hochauflösenden Wafer-Bildgebungssensoren und integrierter Software konfiguriert. Diese Kombination von Funktionen bietet eine ideale Lösung für Wafer-Mapping und Fehlererkennung. Es ist mit zwei fortschrittlichen telezentrischen Objektivsystemen, einem ultrahochauflösenden LCD-Monitor und einem patentierten Dual Illumination Tool ausgestattet, das die höchste Fehlerauflösung ermöglicht. Erweiterte Funktionen der Benutzeroberfläche ermöglichen eine effiziente, intuitive Bedienung und automatisierte Parametereinstellung sowie Mehrbenutzerbedienung. Erweiterte Fehlererkennungsverfahren umfassen die Klassifizierung und Gewichtung von Fehlergeometrie und Graustufeneigenschaften, wodurch eine genauere Fehlererkennungsrate erzeugt wird. Die Anlage ist mit einer Vielzahl beliebter Halbleiterherstellungsprozesse und Materialformulierungen kompatibel und kann bis zu 600mm Wafer handhaben. Es ist mit einem eingebetteten PC mit mehreren USB-Anschlüssen für den Computeranschluss für den Datenaustausch ausgestattet. Das Modell umfasst auch anspruchsvolle Konstruktions- und Spannungsanalyseparameter, um höchste Qualitätskontrollergebnisse zu gewährleisten. Optistation VII bietet hohe Leistung, Zuverlässigkeit und Genauigkeit für eine breite Palette von Masken- und Waferinspektionsanwendungen. Es ist ideal für IC-Designer, Mikroverarbeitungsingenieure sowie Werkstoffwissenschaftler und Mikrofluidingenieure. Seine benutzerfreundliche Benutzeroberfläche und Automatisierungsfunktionen machen es für viele verschiedene Inspektionsaufgaben geeignet. Das Dual-Beam-Design und die ultrahochauflösende Bildgebung ermöglichen die effizienteste und genaueste Fehlererkennung und -klassifizierung.