Gebraucht NIKON Optistation VII #9179814 zu verkaufen

NIKON Optistation VII ist eine hochwertige Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die zur Steigerung der Produktivität und Genauigkeit in Wafer-Inspektionsprozessen entwickelt wurde. Dieses System verwertet fortgeschrittene Technologien wie eine automatisierte hochauflösende Bildaufbereitungseinheit, eine Hochleistungsbildverarbeitungsarchitektur und fortgeschrittene Algorithmen, um höheren Durchfluss und verbesserte Maskenentdeckung zu unterstützen. Optistation VII ist ideal für die Anforderungen an die Masken- und Waferinspektion auf Produktionsebene, einschließlich optischer Auflösung bis zu 0,045 µm. Diese fortschrittliche Inspektionsmaschine ermöglicht eine vollständige Palette von Wafer-Inspektionsmöglichkeiten für Masken- und Retikel-Defekte und ergänzt den Inspektions- und Musteranpassungsprozess. Unter Verwendung fortschrittlicher Optik und Bildverarbeitung kann das Tool 100% des Bereichs eines Wafers inspizieren, um Fehler zu erkennen und zu analysieren, unabhängig von Größe oder Form. Dies ermöglicht eine erhöhte Qualitätskontrolle und eine höhere Ausbeute an zusätzlicher Produktion. NIKON Optistation VII ist in der Lage, mehrere Abbildungsstufen zu verwenden, die für Tiefenprüfung, Maskenvergleich und die Prozessfähigkeit von Maskenlayout und Variationsanalyse verwendet werden können. Darüber hinaus kann das Gut auch zur genauen Beobachtung von Mikrofehlern verwendet werden, die auf der Maske für ein menschliches Auge nicht sichtbar sind. Optistation VII ist für die schnelle und genaue Analyse einer Vielzahl von analogen, digitalen und gemischten Signalanwendungen konzipiert. Hochleistungsbildverarbeitungsarchitektur und fortgeschrittene Algorithmen werden ins Modell integriert, um schnellere und genauere Entdeckung und Analyse von Schulden zu berücksichtigen. Dies hilft, die Genauigkeit einiger Teststrukturen zu verbessern, wie Defekte wie Linienshorts, Leitungsöffnungen, Vias, leitfähige Schleifen, nicht verbundene Pads usw. NIKON Optistation VII verfügt zudem über eine benutzerfreundliche Oberfläche, die die Bedienung und Prozessautomatisierung vereinfacht. Für eine verbesserte Bedienerzugänglichkeit verwendet das Gerät mehrere benutzerdefinierte Ergebnisanzeigetypen. Dazu gehören tabellarische und grafische Ergebnisse, die sicherlich eine detailliertere Fehleranalyse und -beobachtung für einen verbesserten Produktionsprozess und -durchsatz ermöglichen. Schließlich ist Optistation VII ein zuverlässiges und vielseitiges Wafer- und Maskeninspektionssystem, das die Produktivität und Genauigkeit von Waferinspektionsprozessen verbessert. Mit einer hochauflösenden Bildgebungseinheit, fortschrittlichen Algorithmen und Bildverarbeitungsarchitektur ist es in der Lage, Fehler zu erkennen und zu analysieren, unabhängig von Größe oder Form, für eine verbesserte Qualitätskontrolle und erhöhte Erträge der Produktion.