Gebraucht NIKON Optistation VII #9225598 zu verkaufen
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ID: 9225598
Wafergröße: 12"
Automated inspection station, 12"
With FOUP loaders
(2) FOUP Front end load ports:
ASYST ISO Port FL300
With mapper and RFID
Integrated ULPA filtration system
Air suspension vibration isolation table
Standard microscope unit with automated control
10x Eyepieces
Objective lens:
2.5x N.A 0.075 W.D 8.8 mm
10x N.A 0.300 W.D 6.50 mm
20x N.A 0.460 W.D 3.10 mm
50x N.A 0.900 W.D 0.42 mm
150x N.A 0.900 W.D 0.29 mm
Halogen lamp house: 12 V, 100 Watt
Robot and robot controller
Ceramic robot arm
Ceramic rotation arm
Macro unit (A): Wafer chuck
Macro movable uni
Slider assembly
Macro unit (B): Arched holder
Rotation unit assembly
Micro stage unit:
XY Stage / Chuck
X, Y, Z Drive units
Dart controller for image archiving and defect review
LCD Display
Keyboard & trackball
Image capture board
SONY Camera: DXC-9XX/MD.
NIKON Optistation VII ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die über eine integrierte, hochauflösende Wafer-Level-Kamera, ultrahochauflösende Optik, fortschrittliche Beleuchtungstechniken und ausgefeilte Software verfügt. Optistation VII ermöglicht die schnelle, genaue und zerstörungsfreie Inspektion von Masken und Wafern, die bei der Herstellung integrierter Halbleiterschaltungen verwendet werden. NIKON Optistation VII bietet mit seinen fortschrittlichen Funktionen ein umfassendes System zur Inspektion von Masken und Wafern sowie zur Feststellung von Defekten, Anomalien und Musterfehlern. Optistation VII ist für die optische Inspektion von Metall und Photomasken konzipiert, mit einem speziell entwickelten Mikroskop, das eine maximale Feldansicht von 10x und eine maximale Auflösung von 20,4 μ m ermöglicht, um eine genaue Inspektion zu gewährleisten. Ein Reflexionsspektrophotometer ist für kolorimetrische Messungen integriert und NIKON Optistation VII ist in der Lage, die geringsten Unregelmäßigkeiten in Maskenreflexionen, Spiegelungen und anderen Formen von Materialunvollkommenheiten zu erkennen. Optistation VII verfügt auch über eine hochauflösende Wafer-Level-Kamera, die die Untersuchung von Strukturen auf dem Präzisionsniveau von 16nm ermöglicht. Die Kamera verfügt über einen CMOS-Bildsensor mit einem Sichtfeld von 3,8 mm Breite und einer Auflösung von 1,5um, mit einer maximalen Datenrate von 56Gbps. Die Kamera kann auf verschiedene Fokusabstände eingestellt werden, was eine optimale Auflösung und Beleuchtung des untersuchten Materials ermöglicht. Die Inspektionseinheit bietet eine Vielzahl fortschrittlicher Beleuchtungstechniken, einschließlich polarisierter, gestreuter und schräger Beleuchtung, die verwendet werden können, um die kleinstmöglichen Merkmale zu untersuchen und zu analysieren. NIKON Optistation VII ist mit einer leistungsfähigen Bildverarbeitungssoftware ausgestattet, die eine Vielzahl von Fehlern wie Nadelöcher, Schmutz, Linien und Musterfehler erkennen und messen kann. Mängel werden in Echtzeit erkannt und die Software kann einen detaillierten Bericht mit quantitativer Fehleranalyse erstellen. Optistation VII bietet eine leistungsstarke und flexible Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine für eine Vielzahl von Branchen. Mit seiner hochauflösenden Optik, fortschrittlichen Beleuchtungsmethoden und Software zur Erkennung und Analyse von Defekten ermöglicht NIKON Optistation VII die effiziente Inspektion von Masken und Wafern mit höchster Genauigkeit und Präzision.
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