Gebraucht OLYMPUS KIF-201 #9271417 zu verkaufen

OLYMPUS KIF-201 ist eine führende Masken- und Waferinspektionsanlage für die Halbleiterindustrie. Es wurde entwickelt, um höchste Präzisionsanforderungen für eine umfassende topographische Untersuchung von dreidimensionalen Merkmalen auf Masken- und Waferoberflächen zu erfüllen. Dieses System kombiniert fortschrittliche Laserscanning-Technologie, um hochauflösende, detaillierte Bilder der 3-dimensionalen Funktionen auf Maske und Wafer mit einer intuitiven Benutzeroberfläche zu erzeugen, um einen leistungsstarken und effektiven Workflow für Qualitätskontrollinspektionen zu schaffen. KIF-201 verwendet einen Laserscanning-Spalt, der auf einem vordefinierten Weg über die Masken- und Waferoberfläche gescannt wird, wodurch extrem genaue Messungen ermöglicht werden. Der Schlitz besteht aus Helium-Neon-Laserlicht und einem Abbildungsgerät mit bis zu 28,2 muW Empfindlichkeit. Der Laserspalt ist in der Lage, Abstände von bis zu 210 μ m genau zu messen und kann bis zu 250.000 Punkte entlang der Abtastlinie aufnehmen. Diese hohe Auflösung ermöglicht die Erkennung selbst kompliziertester Strukturen auf Masken- und Waferoberflächen. OLYMPUS KIF-201 bietet auch berührungslose Bildgebung, so dass das Gerät empfindliche Strukturen scannen kann, ohne Schäden zu verursachen. Dies ist ideal für empfindliche Proben, die anfällig für Kratzer oder andere physische Schäden sein können. Es bietet auch einen wiederholbaren, zuverlässigen Prozess zur Inspektion von empfindlichen Masken- und Waferoberflächen. Darüber hinaus verfügt KIF-201 über eine einzigartige Maschine zur Verwaltung sowohl der Kamera-Belichtung als auch der Laserscangeschwindigkeit, um sicherzustellen, dass jedes Bild und jede Messung von höchster Qualität ist. Die von OLYMPUS KIF-201 bereitgestellte Imaging-Plattform verfügt zudem über eine leistungsstarke Benutzeroberfläche, die eine einfache Einrichtung und Manipulation der Inspektionsabläufe ermöglicht. Es ist mit grafischen Werkzeugen zur schnellen Definition von Pfaden und Einstellung der Parameter für die Bildaufnahme und Messungen konzipiert. Auch der Inspektionsprozess ist vollautomatisiert und ermöglicht eine vollständige Kontrolle der gesamten Messdauer und Genauigkeit der Ergebnisse. Insgesamt ist KIF-201 ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug für die Halbleiterindustrie. Es bietet modernste Laserscantechnologie und eine hochauflösende Bildgebungsplattform, die genaue, detaillierte und wiederholbare Messungen gewährleistet. Es verfügt auch über eine intuitive Benutzeroberfläche, die eine schnelle Einrichtung und einfache Manipulation des Inspektionsprozesses ermöglicht. Seine berührungslose Bildgebung sorgt auch dafür, dass empfindliche Masken- und Waferoberflächen kontrolliert werden können, ohne Schäden zu riskieren. All diese Eigenschaften machen OLYMPUS KIF-201 zu einer idealen Wahl für eine genaue und zuverlässige Masken- und Wafer-Inspektion.