Gebraucht OLYMPUS KIF-202 #9271418 zu verkaufen

OLYMPUS KIF-202 Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung ist ein industrialisiertes Werkzeug verwendet, um hohe Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit in der Oberflächenqualität Inspektion zu gewährleisten. Dieses System umfasst ein digitales Projektionsmikroskop (DPM), das die Merkmale des Wafers genau untersucht. KIF-202 nutzt eine Hellfeldbeleuchtung und eine hochauflösende Kamera mit einer Vergrößerung von 10 bis 600xp. OLYMPUS KIF-202 ist mit einem hochauflösenden LCD-Farbdisplay und einem interaktiven Touchscreen ausgestattet. Dieser interaktive Touch ermöglicht eine einfache Einstellung der variablen Parameter bei der Anzeige der Maskenmuster und Waferoberflächen. Das Gerät verfügt außerdem über eine vom Benutzer austauschbare Projektionslinsenbaugruppe, um leicht zwischen 5X- und 10X-Ansichten zu wechseln. Darüber hinaus können KIF-202 von einem Computer oder einer industriellen Steuerungsmaschine aus betrieben werden, was die Bedienbarkeit weiter erhöht. Mit der automatisierten Wafer-Alignment-Verarbeitung ist OLYMPUS KIF-202 in der Lage, Breite, Höhe und andere Maske/Wafer-Parameter mit einer Auflösung von bis zu 1 Mikron genau zu messen. Dieses Werkzeug erreicht einen bis zu 6x schnelleren Durchsatz, was eine schnelle und genaue Inspektion von Waferoberflächen ermöglicht. Die in KIF-202 integrierte erweiterte Software verwendet Prüfregeln und Algorithmen, um die Waferoberfläche mit einer gespeicherten Vorlage zu vergleichen. Automatisierte Fehlermessungen und die Speicherung zahlreicher Masken-/Wafer-Muster sorgen für weitere Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Darüber hinaus bietet das Tool visuelle Hilfe, um Fehler zu identifizieren und zu klassifizieren. OLYMPUS KIF-202 verfügt zudem über ein industrielles Design mit einem staubgeschützten Innenraum und Langzeitstabilität. Mit der Kombination aus hochpräzisen Komponenten und robuster Mechanik ermöglicht diese Inspektionsanlage einen hochbelastbaren, kontinuierlichen Betrieb. Das mechanische Modell verwendet auch eine Nivellierausrüstung, um optimale Ergebnisse zu liefern. Insgesamt ist KIF-202 Masken- und Wafer-Inspektionssystem ein ideales Werkzeug zur schnellen, zuverlässigen und genauen Inspektion von Waferoberflächen. Mit seiner fortschrittlichen Software und dem industrietauglichen Design ermöglicht OLYMPUS KIF-202 effiziente und wiederholbare Messungen mit Auflösungen bis zu 1 Mikron. Dieses Gerät ist für die Einhaltung höchster Qualitätsstandards in der Waferproduktion unerlässlich.