Gebraucht OLYMPUS MHL 525 #9195386 zu verkaufen

OLYMPUS MHL 525 ist ein Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das sich durch seine Fähigkeit zur schnellen und genauen Inspektion von Halbleiterscheiben und -masken auszeichnet. Dieses System nutzt fortschrittliche Bildgebungstechnologie, um subtile Unterschiede in den Oberflächenmerkmalen bei einer sehr hohen Auflösung von bis zu 5000x zu erkennen. Es wurde entworfen, um Muster auf verschiedenen Basissubstraten, einschließlich Waferoberflächen, mit höchster Genauigkeit zu überprüfen. OLYMPUS MHL-525 verwendet eine Mustererkennungs-Software-Engine, die Oberflächen bis zu 0,6 Mikrometer in der Funktionsgröße erkennen kann. Es kann große Waferoberflächen bis zu 300mm Durchmesser in einem einzigen Inspektionszyklus scannen. Es verfügt auch über hochpräzise optische Sensoren, um sehr geringe Schwankungen in den Oberflächenmerkmalen zu erkennen. Es kann beispielsweise jedes einzelne fehlende oder abnormal verschobene Element erkennen. MHL 525 ist sowohl zur direkten Bildgebung als auch zur direkten Wafer-Abbildung in der Lage. Die direkte Bildgebung ermöglicht die Inspektion des Substrats aus jedem Winkel oder Blickwinkel. Die direkte Wafer-Kartierung ermöglicht eine genauere Inspektion, da sie eine Sammlung detaillierter messtechnischer Daten ermöglicht. Zu den Hauptkomponenten von MHL-525 gehören ein weites Sichtfeld-Stereomikroskop, ein hochauflösender LCD-Monitor, eine LED-Quelle, eine Partikelerkennungssoftware-Engine und eine Gigabit-Ethernet-Verbindung. Der LCD-Monitor ermöglicht es Benutzern, die inspizierten Objekte in Echtzeit zu betrachten und die LED-Quelle beleuchtet das Substrat für einen optimalen Bildkontrast. Die Partikelerkennungssoftware kann lokalisierte Fehler sowohl in Halbleiterscheiben als auch in Masken erkennen. Diese Software kann Fehler bis zu 0,2 μ m zusammen mit anderen Arten von Miniskule Unregelmäßigkeiten erkennen. Die Software läuft auf einer leistungsstarken Bildverarbeitungs-Hardwareplattform, die auch ein 16-Bit-A/D-Board und einen PCI-Bus umfasst. OLYMPUS MHL 525 unterstützt viele Auflösungs- und Geschwindigkeitseinstellungen, um abwechslungsreiche Inspektionen durchzuführen. Es ermöglicht Benutzern, die Geschwindigkeit, Form und Größe der geprüften Objekte einzustellen und anzupassen. Darüber hinaus ermöglicht es Anwendern, die Intensität verschiedener Komponenten zu ändern, um eine bessere Auflösung und Kontrast auf dem Objekt zu erhalten. Insgesamt ist OLYMPUS MHL-525 ein hocheffizientes und zuverlässiges Masken- und Wafer-Inspektionssystem. Die modernste optische Technologie, fortschrittliche Software-Algorithmen und die leistungsstarke Hardware-Plattform machen es zur perfekten Wahl für komplexe Masken- und Wafer-Inspektionsaufgaben.