Gebraucht OSI Metra 2100M #9026268 zu verkaufen

OSI Metra 2100M Mask & Wafer Inspection Equipment bietet eine leistungsstarke Inspektions-, Analyse- und Fehlerüberprüfungsplattform mit hochgenauen Ergebnissen für die Halbleitermasken- und Waferherstellung. Dieses Tool ist einzigartig entworfen, um Benutzern die benötigte Energie zu geben, um große Wafer- und/oder Maskendatensätze schnell und genau zu analysieren. Dieses Tool kann Maske und Wafer mit bisher unerreichbaren Geschwindigkeiten schnell scannen. Metra 2100M wurde für die Aufnahme von Bildern mit einer Auflösung von bis zu 2 Mikrometern entwickelt und kann einen ganzen 13-Zoll-Wafer in nur 90 Sekunden scannen. Diese einzigartige Optimierung, gepaart mit seinen unglaublich hochauflösenden Algorithmen, sorgt für schnelle und genaue Ergebnisse. Das System ist auch darauf ausgelegt, die Ausschussrate von Wafern zu reduzieren, sowie falsche Fehler aus dem Inspektionsdatensatz zu entfernen. Bei Deep Analytics bietet OSI Metra 2100M zahlreiche anwenderwählbare Pass/Fail-Kriterien, um die Genauigkeit zu gewährleisten. Die Graustufenanalyse verwendet beispielsweise Pixel-für-Pixel-Vergleichstechniken, um Bilddetails genau zu messen. Darüber hinaus bietet das Gerät körnige Analysen und anspruchsvolle Anwendungen für Binär-, Linien-, Füll-, Dichte-, Kontrast- und Transparenzanalysen. Diese können verwendet werden, um die geringsten Unterschiede zwischen Masken und Wafern festzustellen und verschiedene Arten von Defekten zu identifizieren und zu beseitigen. Die Maschine umfasst auch leistungsstarke Fehlerüberprüfungs- und Optimierungswerkzeuge nach der Inspektion. Hier hat der Anwender eine Reihe von Optionen, darunter automatische Fehlerklassifizierung, Fehlerdatenvisualisierung und automatische Klassifizierung verschiedener Fehlertypen. Das Tool wurde entwickelt, um Anwendern integrierte Fehlerdatenbanken zur Verfügung zu stellen, die es Anwendern ermöglichen, ihre Inspektionszeiten weiter zu verkürzen sowie eine verbesserte Erkennung und Zurückweisung von Fehlern anzubieten. Wenn es um Benutzerfreundlichkeit und Effizienz geht, bietet Metra 2100M eine fortschrittliche Temperaturregelung und einen leistungsstarken Dateiformatmanager. Auf diese Weise können Benutzer verschiedene Bilder speichern und vergleichen sowie große Datensätze auf organisierte und effiziente Weise verwalten. Insgesamt bietet OSI Metra 2100M Mask & Wafer Inspection Asset Anwendern zuverlässige, genaue und leicht verständliche Ergebnisse. Seine Optimierung der Bildauflösung, erweiterte Analysen und Fehlerüberprüfungs- und Optimierungswerkzeuge machen es zu einer idealen Wahl für die Herstellung von Halbleitermasken und Wafern.