Gebraucht OSI Metra 2100M #9142681 zu verkaufen

OSI Metra 2100M
ID: 9142681
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
Inspection systems, 8" 1995 vintage.
OSI Metra 2100M ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur präzisen Inspektion von Photomasken und Halbleiterscheiben. Es kombiniert optische Overhead-Mikroskope mit fortschrittlichen bildgebenden und automatisierten Messtechniken für hochpräzise Bildgebung und Analyse. Metra 2100M verwendet eine CCD-Kamera mit einer empfindlichen dpi-Auflösung, um Bilder mit Präzision und Klarheit aufzunehmen, während softwarebasierte Algorithmen dann eine schnelle und robuste Bildanalyse ermöglichen. Das System bietet mehrere Prozesse wie Kontrast-/Helligkeitsanpassung, Bildfilterung, Funktionsfilterung, Maskenausrichtung und eine Vielzahl von Wafer- und Maskeninspektionsmethoden. OSI Metra 2100M verfügt über eine Vielzahl fortschrittlicher Bildgebungsfunktionen. Zu diesen Funktionen gehören Darkfield-Bildgebung, ultraviolette Bildgebung, Line-Follow und Vektorverfolgung. Darüber hinaus kann das Gerät eine Vielzahl von Oberflächen- und Mustermessungen durchführen, einschließlich Profilmessungen, Linienbreitenmessungen und CD-Messungen (kritische Abmessungen). Metra 2100M ist in der Lage, sowohl allgemeine als auch spezialisierte Messungen durchzuführen, darunter Querschnitte, optische Merkmalsüberlagerung, Röntgenlinienkartierung und 3D-Messung von Wafer-Messtechnik-Merkmalen. Alle Messungen aus dem Gerät können mit Bildhosting-Software archiviert und inspiziert werden. Ein wichtiges Merkmal von OSI Metra 2100M ist die automatisierte Überprüfung von Maskenregeln. Die Maschine wurde entwickelt, um Qualitätskontrolle und Wiederholbarkeit im Maskenherstellungsprozess zu liefern, unabhängig von Größe oder Komplexität. Metra 2100M ermöglicht es Anwendern, Messdaten zur weiteren Analyse und/oder Skalierung und/oder zum Vergleich und/oder zur Herstellung einfach in andere Formate zu exportieren. OSI Metra 2100M ist ein effizientes, kostengünstiges Werkzeug für die Masken- und Waferinspektion. Es bietet eine verbesserte Empfindlichkeit und Auflösung, eine Vielzahl von bildgebenden Techniken und Werkzeugen sowie die Fähigkeit, ein hohes Durchsatzvolumen an Wafern und Masken genau zu überprüfen. Die benutzerfreundliche Softwareschnittstelle macht es dem Bediener zudem einfach, Inspektionsparameter festzulegen, Messdaten zu speichern und zu überprüfen und bei Bedarf Korrekturmaßnahmen durchzuführen. Das Asset ist ideal für Produktionsumgebungen, die schnelle und konsistente Ergebnisse erfordern.
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