Gebraucht OSI POLYCHECK W-LAF #9329316 zu verkaufen

OSI POLYCHECK W-LAF ist eine von OSI Opto Electronics entwickelte Masken- und Waferinspektionsanlage. Es ist ein vollautomatisches System, das Zeit und Aufwand bei der Suche nach Fehlern in Photomasken und Wafern reduziert. Die Einheit untersucht Bilder der Wafer und Photomasken, um Fehler zu identifizieren, und sortiert sie dann vorher in Klassifikationen. Mit einer optischen Laserprojektionsmaschine ist POLYCHECK W-LAF in der Lage, extrem kleine Partikel und Defekte, wie Partikel, die kleiner als 25 μ m groß sind, zu erkennen. Dadurch eignet sich das Werkzeug gut zur Überprüfung sowohl der Masken- als auch der Wafergröße als auch zur Feststellung von Fehlern auf beiden Seiten der Maske. Neben seiner Auflösungskraft verfügt das Asset auch über zwei verschiedene optische Funktionen, die schnelle und genaue Inspektionen ermöglichen. Das Modell enthält eine Live-Imaging-Funktion, die den Prozess der Inspektion der Masken vereinfacht und beschleunigt. Die Live-Imaging-Funktion erfasst die Bilder der Wafer in Echtzeit und ermöglicht es dem Bediener, alle Fehler im Bild schnell zu überprüfen. Diese Funktion eignet sich besonders für großvolumige Fertigungsanwendungen, da sie eine schnelle Replikation derselben Inspektionsergebnisse ermöglicht. Das zweite Merkmal von OSI POLYCHECK W-LAF ist die automatisierte Fehlersortierung. Das Gerät ist in der Lage, Fehler anhand ihrer Größe und Position auf der Maske oder dem Wafer schnell und genau zu sortieren. Diese Fehlersortierungsparameter können x/y-Koordinaten, Flächengröße, Helligkeit/Intensität, Seitenverhältnis und steilste/Zerfallsrate umfassen. Dies macht den gesamten Inspektionsprozess viel schneller und effizienter, da die Bediener schnell Bereiche identifizieren können, die einer detaillierteren Inspektion bedürfen. Insgesamt bietet POLYCHECK W-LAF extrem hochauflösendes Scannen bei beeindruckender Geschwindigkeit. Dank seiner Live-Bildgebung und der automatisierten Fehlersortierung ist es das ideale Werkzeug, um Fehler in der Maske oder dem Wafer schnell und genau zu finden. Es ist ein leistungsfähiges System, das Zeit und Aufwand sparen und gleichzeitig sicherstellen kann, dass das fertige Produkt fehlerfrei ist.