Gebraucht OSI VLS-1 #40614 zu verkaufen
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ID: 40614
Wafergröße: 4,5,6 possible 7,9
CD Measurment System, setup for mask work with multiple size holders.
OSI VLS-1 ist eine fortschrittliche Masken- und Waferinspektionsanlage, die im Halbleiterherstellungsprozess zur Erkennung von Defekten im Lithographieprozess eingesetzt wird. Das Inspektionssystem verwendet ausgeklügelte optische Techniken mit hochauflösenden bildgebenden Scans, um mikro- und submikrongroße Unregelmäßigkeiten auf der Oberfläche von Siliziumscheiben und Photomasken zu erkennen, die im Lithographieverfahren verwendet werden. Der Kern VLS-1 Einheit ist ein großes optisches Mikroskop mit maximaler Vergrößerungsfähigkeit von fünf Hundertfachen. Dies ermöglicht eine präzise Abbildung, um kleinste Unregelmäßigkeiten auf den Oberflächen von Wafer und Maske zu erkennen. Um die Genauigkeit zu gewährleisten, ist das Mikroskop zusätzlich mit einer MultiLED-Beleuchtungsmaschine für optimalen Licht- und Schattenkontrast sowie einem digitalen Abstandsgrenzer zur präzisen Messung an bildgebenden Spezifikationen ausgestattet. Das bildgebende Werkzeug enthält auch eine automatisierte Mustererkennung, die es dem Mikroskop ermöglicht, einen „Fingerabdruck“ der Musterschicht darzustellen, und ein automatisiertes Fehlererkennungsmodell, das Unregelmäßigkeiten identifizieren kann, die die Produktionsqualität beeinträchtigen können. Mit diesen Systemen ist das Gerät in der Lage, Fehler, die an der Oberfläche vorhanden sein können, schnell zu identifizieren und eine schnelle Rückmeldung auf das Problem zu geben. OSI- VLS-1 ist nicht auf die Bildgebung beschränkt, da es auch eine umfassende Suite von zerstörungsfreien Testoptionen (NDT) umfasst. Das System verfügt über eine elektromagnetische Induktion (EMI) -Funktion, die auf kurze Hosen, Überströme und andere Anomalien prüft, die aus einer unsachgemäßen Photoresistverarbeitung resultieren können. Darüber hinaus kann das Gerät auch einen akustischen Impedanzmodus (AIM) und einen Auto-Sampler-Modus (ASM) verwenden, um Wafer und Masken auf atomarer Ebene weiter zu analysieren. Die gesamte Maschine wird durch eine fortschrittliche Softwarelösung, ProVS, geschützt und überwacht. Dieses vollständig integrierte Paket steuert den Betrieb des Bildgebungstools, bietet Echtzeitleistung und ermöglicht Remote-Datenzugriff und -Verwaltung. Darüber hinaus kann die Software auch benutzerdefinierte Berichte sowie eine Zusammenfassung der Untersuchungsergebnisse erstellen. Insgesamt verwendet VLS-1 Einrichtung für die Masken- und Waferinspektion hochentwickelte optische Techniken und NDT-Optionen, um Unregelmäßigkeiten zu erkennen, die sich möglicherweise auf die Qualität von Lithographieprozessen auswirken könnten. Dieses Modell hat sich als wertvolles Gut für die Halbleiterindustrie erwiesen und wird von globalen Marken in diesem Sektor vertraut.
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